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  • 激光直写无掩膜光刻机
    激光直写无掩膜光刻机

    激光直写无掩膜光刻机紫外光直写曝光 ,无需掩模,大幅节约了掩模加工费用,灵活性高,可直接通过电脑设计光刻图形,并可根据设计要求随意调整,可升级开放性系统设计,按照客户要求自由配置,使用维护简单, 设备耗材价格低,应用范围广,目前广泛应用于半导体、生物芯片、微机电系统、传感器、微化学、光学等领域。

    更新时间:2021-12-23型号:
  • 飞行时间二次离子质谱
    飞行时间二次离子质谱

    飞行时间二次离子质谱是一种灵敏的表面分析技术,可以广泛应用于物理,化学,微电子,生物,制药,空间分析等工业和研究方面。TOF-SIMS可以提供表面,薄膜,界面以至于三维样品的元素,分子等结构信息。

    更新时间:2021-12-23型号:
  • spin coater匀胶机
    spin coater匀胶机

    spin coater匀胶机既在高速旋转的基片上,滴注各类胶液,利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上,厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同,也和旋转速度及时间有关。

    更新时间:2021-12-23型号:
  • 低温等离子体源
    低温等离子体源

    低温等离子体源通过外部开关信号发射,直接放电,低输入电压、高输出电压,基于压电变压器直接放电,同时在元件的输出端直接产生冷等离子,等离子通过电离空气或气体来形成。

    更新时间:2021-12-23型号:
  • 深能级瞬态谱仪
    深能级瞬态谱仪

    深能级瞬态谱仪是半导体领域研究和检测半导体杂质、缺陷深能级、界面态等的重要技术手段!测试功能:电容模式、定电容模式、电流模式、(双关联模式)、光激发模式、FET分析、MOS分析、等温瞬态谱、Trap profiling、俘获截面测量、I/V,I/V(T) 、C/V, C/V(T) 、TSC/TSCAP 、光子诱导瞬态谱、DLOS。

    更新时间:2021-12-23型号:
  • mask aligner半自动光刻机
    mask aligner半自动光刻机

    mask aligner半自动光刻机该公司是目前世界上早将光刻机商品化的公司之一,拥有雄厚的技术研发力量和设备生产能力;并且其设备被众多著名企业、研发中心、研究所和高校所采用;以优秀的技术、工艺和良好的服务,赢得了用户的青睐。

    更新时间:2021-12-23型号:
  • 深能级瞬态谱仪1
    深能级瞬态谱仪1

    深能级瞬态谱仪1半导体领域研究和检测半导体杂质、缺陷深能级、界面态等的重要技术手段。根据半导体P-N 结、金-半接触结构肖特基结的瞬态电容(△C~t)技术和深能级瞬态谱(DLTS)的发射率窗技术测量出的深能级瞬态谱

    更新时间:2018-12-11型号:
  • 英国KP开尔文探针扫描
    英国KP开尔文探针扫描

    英国KP开尔文探针扫描是一种非接触无损震荡电容装置,用于测量导体材料的功函数(Work Function)或半导体、绝缘表面的表面势(Surface Potential)。材料表面的功函数通常由Z上层的1-3层原子或分子决定,所以开尔文探针是一种Z灵敏的表面分析技术。

    更新时间:2021-12-23型号:
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