薄膜半导体制备系统-科睿设备有限公司

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磁控溅射镀膜机支持多种样品衬底

多功能磁控溅射仪(溅射、热蒸发、电子束蒸发)
多种薄膜沉积设备，PECVD、ALD、PLD、MBE、磁控溅射、电子束蒸发、热蒸发等。详细介绍请登陆公司网页。http://www.cross-tech.com.cn/

更新时间：2017-08-24型号：

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磁控溅射镀膜机
磁控溅射镀膜机具有射频溅射，直流溅射，脉冲直流溅射；304不锈钢圆柱形腔体，标准直径有18英寸和24英寸，手动传片或自动传片,适合各种形状尺寸的小片到200mm大的圆片，高真空背景传递，可加热，冷却，偏压，旋转。

更新时间：2021-12-23型号：

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sputter coater多功能磁控溅射仪
sputter coater多功能磁控溅射仪包含大多数的真空薄膜镀层技术，电子束蒸发，溅射沉积。这样我们在一台设备上可以灵活运用多种膜生长技术,针对各种不同大小和形状的样品,非常方便切换沉积模式。

更新时间：2021-12-23型号：

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狭缝挤出式涂布机
狭缝挤出式涂布机粘度范围：1-20000cps，应用衬底：玻璃， PET聚酯，纸张，幅宽：90mm, 120mm, 300mm。

更新时间：2021-12-23型号：

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微型磁控溅射
这款来自美国的微型磁控溅射系统满足研究所和研发部门对真空薄膜沉积的性能要求，占用空间小，具有超高的性价比，可以向客户提供优质的服务。

更新时间：2018-12-11型号：

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超高真空磁控溅射系统
超高真空磁控溅射系统美国专业的制造商PVD公司是一家在磁控溅射沉积，电子束蒸发沉积，脉冲激光沉积等领域有着20年制造经验。

更新时间：2018-12-11型号：

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E-Beam电子束蒸发镀膜系统
E-Beam电子束蒸发镀膜系统304不锈钢圆柱形腔体，标准直径有18英寸和24英寸，分子泵或冷凝泵；手动传片或自动传片,适合各种形状尺寸的小片到200mm大的圆片，高真空背景传递；PLC自动控制界面，菜单控制，数据获取和远程控制，QCM膜厚监控，光学膜厚监控。

更新时间：2021-12-23型号：

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金属有机化合物化学气相沉积
金属有机化合物化学气相沉积其反应器的设计可以根据工艺的需要很容易提升到满足大直径晶片生产的需要。我们也能为客户设计以满足客户特殊工艺和应用的需要。系统部件包括：反应器、气体传输系统、电气控制系统和尾气处理系统.

更新时间：2018-12-11型号：

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