磁控溅射镀膜机electronbeamevaporation，电子束蒸发； resistiveevaporation，热阻蒸发； ionbeamassisteddeposition（IBAD），离子束辅助蒸发镀膜； effusioncell，泻流源。

多功能磁控溅射仪，PECVD、ALD、PLD、MBE、磁控溅射、电子束蒸发、热蒸发等。详细介绍请登陆公司网页。

狭缝挤出式涂布机粘度范围：1-20000cps 应用衬底：玻璃，PET聚酯，纸张 幅宽：90mm,120mm,300mm

这款来自美国的微型磁控溅射系统满足研究所和研发部门对真空薄膜沉积的性能要求，占用空间小，具有超高的性价比，可以向客户提供优质的服务。

超高真空磁控溅射系统美国专业的制造商PVD公司是一家在磁控溅射沉积，电子束蒸发沉积，脉冲激光沉积等领域有着20年制造经验。

电子束蒸发镀膜系统electronbeamevaporation，电子束蒸发； resistiveevaporation，热阻蒸发； ionbeamassisteddeposition（IBAD），离子束辅助蒸发镀膜； effusioncell，泻流源。

金属有机化合物化学气相沉积其反应器的设计可以根据工艺的需要很容易提升到满足大直径晶片生产的需要。我们也能为客户设计以满足客户特殊工艺和应用的需要。系统部件包括：反应器、气体传输系统、电气控制系统和尾气处理系统.

超高真空多腔室物理气相沉积系统该系统由全球专业的沉积设备商制造,配置多种沉积方式（预留各种功能接口）,高度灵活,非常适合多种沉积模式的科研.