原子层沉积系统-科睿设备有限公司

当前位置：首页 > 产品中心 > 科睿其他产品 > 原子层沉积系统

产品分类

Product Category

查看全部

等离子体增强原子层沉积系统
等离子体增强原子层沉积系统一个基本的原子层沉积循环包括四个步骤：脉冲A，清洗A，脉冲B和清洗B。沉积循环不断重复直至获得所需的薄膜厚度，是制作纳米结构从而形成纳米器件的工具。

更新时间：2018-12-11型号：

查看详情
原子层沉积系统
原子层沉积系统1.ALD （传统的热原子层沉积）； 2.PEALD （等离子增强原子层沉积）； 3.Powder ALD （粉末样品的原子层沉积）；

更新时间：2018-12-03型号：

查看详情
原子层沉积系统(Atomic Layer Deposition System)
原子层沉积是在一个加热反应器中的衬底上连续引入至少两种前驱体物种，化学吸附的过程直至表面饱和时就自动终止，适当的过程温度阻碍了分子在表面的物理吸附。一个基本的原子层沉积循环包括四个步骤：脉冲A，清洗A，脉冲B和清洗B。沉积循环不断重复直至获得所需的薄膜厚度，是制作纳米结构从而形成纳米器件的工具。

更新时间：2017-07-10型号：

查看详情

共 3 条记录，当前 1 / 1 页首页上一页下一页末页跳转到第页

扫一扫，关注微信

地址：上海市杨浦区松花江路251弄白玉兰环保广场3号902室邮箱：1617579497@qq.com 传真：021-55781190