等离子体增强原子层沉积系统一个基本的原子层沉积循环包括四个步骤：脉冲A，清洗A，脉冲B和清洗B。沉积循环不断重复直至获得所需的薄膜厚度，是制作纳米结构从而形成纳米器件极佳的工具。

原子层沉积系统1.ALD（传统的热原子层沉积）； 2.PEALD（等离子增强原子层沉积）； 3.PowderALD（粉末样品的原子层沉积）；

原子层沉积是在一个加热反应器中的衬底上连续引入至少两种前驱体物种，化学吸附的过程直至表面饱和时就自动终止，适当的过程温度阻碍了分子在表面的物理吸附。一个基本的原子层沉积循环包括四个步骤：脉冲A，清洗A，脉冲B和清洗B。沉积循环不断重复直至获得所需的薄膜厚度，是制作纳米结构从而形成纳米器件的极佳工具。