光刻机及匀胶机系统-科睿设备有限公司

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激光直写无掩膜光刻机
激光直写无掩膜光刻机紫外光直写曝光，无需掩模，大幅节约了掩模加工费用，灵活性高，可直接通过电脑设计光刻图形，并可根据设计要求随意调整，可升级开放性系统设计，按照客户要求自由配置，使用维护简单, 设备耗材价格低，应用范围广，目前广泛应用于半导体、生物芯片、微机电系统、传感器、微化学、光学等领域。

更新时间：2021-12-23型号：

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spin coater匀胶机
spin coater匀胶机既在高速旋转的基片上，滴注各类胶液，利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上，厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同，也和旋转速度及时间有关。

更新时间：2021-12-23型号：

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mask aligner半自动光刻机
mask aligner半自动光刻机该公司是目前世界上早将光刻机商品化的公司之一，拥有雄厚的技术研发力量和设备生产能力；并且其设备被众多著名企业、研发中心、研究所和高校所采用；以优秀的技术、工艺和良好的服务，赢得了用户的青睐。

更新时间：2021-12-23型号：

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匀胶机，旋涂仪
匀胶机，旋涂仪其工作原理是高速旋转基片, 利用离心力使滴在基片上的胶液均匀的涂在基片上, 厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同, 也和旋转速度及时间有关。

更新时间：2018-12-11型号：

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全自动光刻机
全自动光刻机公司开发并生产用于半导体、MEMS、LED及纳米技术相关的实验室和工业领域的光罩对准曝光机和甩胶机，是韩国*家研发并商业化光罩对准曝光机的企业，始终致力于不断完善、增强技术型企业的核心竞争力。

更新时间：2018-12-11型号：

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纳米压印系统
纳米压印系统介绍了一个台式、独立的纳米压印平台。该平台提供了一个带有微型定位夹具的机械平台，用于安装纳米压印室、紫外线固化

更新时间：2019-02-26型号：

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硅穿孔工艺设备
硅穿孔工艺设备圆和晶圆之间制作垂直导通，实现芯片之间互连的新技术。能够使芯片在三维方向堆叠的密度大，芯片之间的互连线短，外形尺寸小，并且大大改善芯片速度和低功耗的性能，使目前电子封装技术中引人注目的新技术。

更新时间：2018-12-11型号：

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狭缝挤压型涂布仪
狭缝挤压型涂布仪夹缝式挤压型涂布仪（Slot Die Coater）可以用于可复制重复性测试。归功于桌面小型化的设计。它也可以大幅降低材料损耗。客户通过快速的多样化测试来获得更多客观结果。

更新时间：2018-12-11型号：

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