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  • 激光直写无掩膜光刻机
    激光直写无掩膜光刻机

    激光直写无掩膜光刻机紫外光直写曝光 ,无需掩模,大幅节约了掩模加工费用,灵活性高,可直接通过电脑设计光刻图形,并可根据设计要求随意调整,可升级开放性系统设计,按照客户要求自由配置,使用维护简单, 设备耗材价格低,应用范围广,目前广泛应用于半导体、生物芯片、微机电系统、传感器、微化学、光学等领域。

    更新时间:2021-12-23型号:
  • spin coater匀胶机
    spin coater匀胶机

    spin coater匀胶机既在高速旋转的基片上,滴注各类胶液,利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上,厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同,也和旋转速度及时间有关。

    更新时间:2021-12-23型号:
  • mask aligner半自动光刻机
    mask aligner半自动光刻机

    mask aligner半自动光刻机该公司是目前世界上早将光刻机商品化的公司之一,拥有雄厚的技术研发力量和设备生产能力;并且其设备被众多著名企业、研发中心、研究所和高校所采用;以优秀的技术、工艺和良好的服务,赢得了用户的青睐。

    更新时间:2021-12-23型号:
  • 匀胶机,旋涂仪
    匀胶机,旋涂仪

    匀胶机,旋涂仪其工作原理是高速旋转基片, 利用离心力使滴在基片上的胶液均匀的涂在基片上, 厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同, 也和旋转速度及时间有关。

    更新时间:2018-12-11型号:
  • 全自动光刻机
    全自动光刻机

    全自动光刻机 公司开发并生产用于半导体、MEMS、LED及纳米技术相关的实验室和工业领域的光罩对准曝光机和甩胶机,是韩国*家研发并商业化光罩对准曝光机的企业,始终致力于不断完善、增强技术型企业的核心竞争力。

    更新时间:2018-12-11型号:
  • 纳米压印系统
    纳米压印系统

    纳米压印系统 介绍了一个台式、独立的纳米压印平台。该平台提供了一个带有微型定位夹具的机械平台,用于安装纳米压印室、紫外线固化

    更新时间:2019-02-26型号:
  • 硅穿孔工艺设备
    硅穿孔工艺设备

    硅穿孔工艺设备圆和晶圆之间制作垂直导通,实现芯片之间互连的新技术。能够使芯片在三维方向堆叠的密度大,芯片之间的互连线短,外形尺寸小,并且大大改善芯片速度和低功耗的性能,使目前电子封装技术中引人注目的新技术。

    更新时间:2018-12-11型号:
  • 狭缝挤压型涂布仪
    狭缝挤压型涂布仪

    狭缝挤压型涂布仪夹缝式挤压型涂布仪(Slot Die Coater)可以用于可复制重复性测试。归功于桌面小型化的设计。它也可以大幅降低材料损耗。客户通过快速的多样化测试来获得更多客观结果。

    更新时间:2018-12-11型号:
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