无掩膜光刻机公司凭借多年的光刻设备生产经验和多项无掩模曝光技术，已成为无掩模紫外光刻领域的。国内参考用户较多！

全自动光刻机公司开发并生产用于半导体、MEMS、LED及纳米技术相关的实验室和工业领域的光罩对准曝光机和甩胶机，是韩国*家研发并商业化光罩对准曝光机的企业，始终致力于不断完善、增强技术型企业的核心竞争力。

纳米压印系统 介绍了一个台式、独立的纳米压印平台。该平台提供了一个带有微型定位夹具的机械平台，用于安装纳米压印室、紫外线固化

半自动光刻机该公司是目前世界上最早将光刻机商品化的公司之一，拥有雄厚的技术研发力量和设备生产能力；并且其设备被众多著名企业、研发中心、研究所和高校所采用；以优秀的技术、精湛的工艺和良好的服务，赢得了用户的青睐。

匀胶机1他们原理都是一样的，既在高速旋转的基片上，滴注各类胶液，利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上，厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同，也和旋转速度及时间有关。

硅穿孔工艺设备圆和晶圆之间制作垂直导通，实现芯片之间互连的新技术。能够使芯片在三维方向堆叠的密度最大，芯片之间的互连线最短，外形尺寸最小，并且大大改善芯片速度和低功耗的性能，使目前电子封装技术中最引人注目的新技术。

狭缝挤压型涂布仪夹缝式挤压型涂布仪（SlotDieCoater）可以用于可复制重复性测试。归功于桌面小型化的设计。它也可以大幅降低材料损耗。客户通过快速的多样化测试来获得更多客观结果。

无掩膜曝光机 美国IMP（IntelligentMicroPatterning,LLC）公司凭借多年的光刻设备生产经验和多项无掩模曝光技术，已成为无掩模紫外光刻领域的。国内参考用户较多！