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与传统制备色谱相比,脉冲激光外延制备系统有哪些优点?
点击次数:16 发布时间:2020-12-26
  脉冲激光外延制备系统简单实用的PLD系统、磁控溅射系统,性能稳定的薄膜沉积系统,可提供PLD、磁控溅射、蒸发镀膜等多种薄膜制备方案,是多铁性薄膜制备的设备,特有的石墨烯生长装置可以制备高质量的石墨烯薄膜。
  制备系统可制备的薄膜包括氮化物、氧化物、多层膜、石墨烯、碳纳米管、2D材料,例如基片加热装置、原位监测工具。此外还为您提供标准的薄膜以及材料涂层,例如氧化物涂层、导电薄膜、无定型或纳米晶、聚合物、纳米钻、钻涂层以及器件加工。
  系统利用磁性氧化物中固有的氧空位,不需要离子液体栅极,有利于广泛应用于氧化物多铁异质结构,简化了设备的应用,此方法对利用离子运动调控多铁材料电控磁性能提供了新的思路。与传统制备色谱相比,有着高压力,大流量,配备馏分收集器,具有更高的处理样品能力,高精度梯度泵,可以实现梯度混合,双泵头设计降低了脉动,可以适应不同类型的色谱填料。
  系统优点
  1、应用范围广,制备纯度高,可适应不同柱子和填料。
  2、全自动化设计,从软件上实现对仪器全程控制,达到智能化。
  3、可选配3DS 层析过程分析工具软件,强大全谱分析功能。
  4、安全可靠,压力报警,流量报警。
  5、软件调节氘灯能量,可延长使用寿命溶剂输送系统。
  脉冲激光外延制备系统将激光聚焦于靶材上一个较小的面积,利用激光的高能量密度将部分靶材料蒸发甚至电离,使其能够脱离靶材而向基底运动,进而在基底上沉积,从而形成薄膜的一种方式。在众多的薄膜制备方法中应用较为广泛,可用来制备金属、半导体、氧化物、氮化物、碳化物、硼化物、硅化物、硫化物及氟化物等各种物质薄膜,甚至还用来制备一些难以合成的材料膜,如金刚石、立方氮化物膜等。

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