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脉冲激光外延制备系统的9个优势介绍
点击次数:53 发布时间:2021-07-23
  脉冲激光外延制备系统可制备的薄膜包括氮化物、氧化物、多层膜、钻石、石墨烯、碳纳米管、2D材料,还提供相关系统配件,例如基片加热装置、原位监测工具,还为您提供标准的薄膜以及材料涂层,例如氧化物涂层、导电薄膜、无定型或纳米晶、聚合物、纳米钻石、钻石涂层以及器件加工。
  优势:
  1. 靶源易蒸发,即使是高熔点的材料,如氧化物,也很容易蒸发。
  2. 化学计量比准确,沉积的薄膜和靶材的化学组分几乎完全一样。
  3. 污染少。
  4. 激光脉冲的重复频率可进行薄膜厚度/生长速率的数字式或非连续性控制。
  5. 差分抽气结构,可在宽的气压范围内工作。
  6. 靶材的交换简单快捷,有利于实现异质外延和多层结构的生长。
  7. 脉冲激光外延制备系统结构紧凑,含有许多技术,如衬底加热和样品或靶材的进样-自锁交换装置等。
  8. 在真空环境下利用脉冲激光对靶材表面进行轰击,利用激光产生的局域热量将靶材物质轰击出来,再沉积在不同的衬底上,从而形成薄膜。
  9. 外延薄膜、多层异质结构和超晶格的沉积,使用原位RHEED诊断技术沉积纳米级薄膜。
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