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多功能磁控溅射仪功能强大,性价比高

发布时间:2022-04-19      点击次数:128
       多功能磁控溅射仪在所有的小型高真空镀膜设备中,此设备功能强大,性能价格比非常好。镀膜方式包含了热蒸发,电子束蒸发和磁控溅射沉积。由于它的模块化设计,使得多数研发人员用起来非常方便,针对各种样品易于转换沉积条件,是研究人员不可获缺的镀膜工具!
  系统主要由溅射真空室、磁控溅射靶、基片水冷加热公转台、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等部分组成。主要性能指标:极限压力≤2.0x10-5Pa;基片结构设计6个工位;样品尺寸:Ф30mm,可放置6片;运动方式:0-360°;加热:最高温度600°C;靶材尺寸Φ60mm,各靶射频溅射与直流溅射兼容,靶与样品距离40-80mm可调,永磁靶5套。质量流量控制器2路.计算机控制样品转动、挡板开关、靶位确认等。
  多功能磁控溅射仪特点:
  1、此系统包含大多数的真空薄膜镀层技术:热蒸发(boatevaporationorcrucible),电子束蒸发,溅射沉积。
  2、这样我们在一台设备上可以灵活运用多种膜生长技术,针对各种不同大小和形状的样品,非常方便切换沉积模式。
  3、腔体的开放式设计,使得样品大小从几毫米到250毫米均可镀层。样品夹具可以轻松固定多个样品并同时镀膜。此系统真空腔内连接一个300mm宽的快速通道门,可以非常方便和快速地切换样品和靶源。这对于薄膜制备研究机构,面对多种材料增加或改变沉积方式,转换起来非常方便,并没有任何空间限制。
  4、此系统为模块式设计,可以针对用户的具体应用来订制设计结构。
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