您好!欢迎访问科睿设备有限公司网站!
咨询热线

13916855175

当前位置:首页 > 技术文章 > 脉冲激光沉积的沉积速率高,试验周期短

脉冲激光沉积的沉积速率高,试验周期短

发布时间:2022-05-06      点击次数:21
       脉冲激光沉积也被称为脉冲激光烧蚀(pulsedlaserablation,PLA),是一种利用激光对物体进行轰击,然后将轰击出来的物质沉淀在不同的衬底上,得到沉淀或者薄膜的一种手段。
  不过,脉冲激光沉积的发展与探究,处处受制。事实上,当时的激光科技还未成熟,可以得到的激光种类有限;输出的激光既不稳定,重复频率亦太低,使任何实际的膜生成过程均不能付诸实行。因此,PLD在薄膜制作的发展比其它技术落后。以分子束外延(MBE)为例,制造出来的薄膜质素就优良得多。
  往后十年,由于激光科技的急速发展,提升了PLD的竞争能力。与早前的红宝石激光器相比,当时的激光有较高的重复频率,使薄膜制作得以实现。随后,可靠的电子Q开关激光(electronicQ-switcheslasers)面世,能够产生极短的激光脉冲。因此,PLD能够用来做到将靶一致蒸发,并沉积出化学计量薄膜。由于紫外线辐射,薄膜受吸收的深度较浅。之后发展出来的高效谐波激光器(harmonicgenerator)与激基分子激光器(excimer)甚至可产生出强烈的紫外线辐射。自此以后,以非热能激光熔化靶物质变得极为有效。
  脉冲激光沉积主要优点:
  1.易获得期望化学计量比的多组分薄膜,即具有良好的保成分性。
  2.沉积速率高,试验周期短,衬底温度要求低,制备的薄膜均匀。
  3.工艺参数任意调节,对靶材的种类没有限制。
  4.发展潜力巨大,具有极大的兼容性。
  5.便于清洁处理,可以制备多种薄膜材料。
扫一扫,关注微信
地址:上海市杨浦区松花江路251弄白玉兰环保广场3号902室 传真:021-55781190
©2022 科睿设备有限公司 版权所有 All Rights Reserved.  备案号:
扫一扫访问手机站扫一扫访问手机站
访问手机站