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光刻机百科介绍

发布时间:2023-01-17      点击次数:78
  一、光刻机(lithography)又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等,是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术,把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。
 
  二、组成步骤:利用模版去除晶圆表面的保护膜、将晶圆浸泡在腐化剂中,失去保护膜的部分被腐蚀掉后形成电路、
 
  用纯水洗净残留在晶圆表面的杂质、模版和晶圆大小一样,模版不动、模版和集成电路大小一样,模版随曝光机聚焦部分移动。
 
  三、曝光机是生产大规模集成电路的核心设备,制造和维护需要高度的光学和电子工业基础,世界上只有少数厂家掌握。因此曝光机价格昂贵,通常在3千万至5亿美元。
 
  四、投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机两种,分辨率通常七纳米至几微米之间,光刻机号称精密的仪器,世界上已有1.2亿美金一台的光刻机。光刻机堪称现代光学工业之花,其制造难度之大,只有少数几家公司能够制造。国外品牌主要以荷兰ASML(镜头来自德国),日本Nikon(intel曾经购买过Nikon的光刻机)和日本Canon三品牌为主。
 
  五、工件台为光刻机的一个关键,由掩模样片整体运动台(XY)、掩模样片相对运动台(XY)、转动台、样片调平机构、样片调焦机构、承片台、掩模夹、抽拉掩模台组成。样片调焦机构由调焦手轮、杠杆机构和上升直线导轨等组成,调平上升过程初步调焦,调平完成锁紧球气浮后,样片和掩模之间会产生一定的间隙,因此必须进行微调焦。另一方面,调平完成进行对准,必须分离一定的对准间隙,也需要进行微调焦。
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