您好!欢迎访问科睿设备有限公司网站!
咨询热线

13916855175

当前位置:首页 > 技术文章 > 光刻机的应用和原理概述

光刻机的应用和原理概述

更新时间:2023-04-21      点击次数:832
  一、掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等,是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术,把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。其中曝光机就是利用紫外线通过模版去除晶圆表面的保护膜的设备。一片晶圆可以制作数十个集成电路,根据模版曝光机分为两种:模版和晶圆大小一样,模版不动。模版和集成电路大小一样,模版随曝光机聚焦部分移动。
 
  二、利用模版去除晶圆表面的保护膜。将晶圆浸泡在腐化剂中,失去保护膜的部分被腐蚀掉后形成电路。用纯水洗净残留在晶圆表面的杂质。其中模版随曝光机移动的方式,模版相对曝光机中心位置不变,始终利用聚焦镜头中心部分能得到更高的精度。
 
  三、手动:指的是对准的调节方式,是通过手调旋钮改变它的X轴,Y轴和thita角度来完成对准,对准精度可想而知不高了;半自动:指的是对准可以通过电动轴根据CCD的进行定位调谐;自动:指的是从基板的上载下载,曝光时长和循环都是通过程序控制,自动光刻机主要是满足工厂对于处理量的需要。
 
  四、工件台为光刻机的一个关键,由掩模样片整体运动台(XY)、掩模样片相对运动台(XY)、转动台、样片调平机构、样片调焦机构、承片台、掩模夹、抽拉掩模台组成。样片调焦机构由调焦手轮、杠杆机构和上升直线导轨等组成,调平上升过程初步调焦,调平完成锁紧球气浮后,样片和掩模之间会产生一定的间隙,因此必须进行微调焦。另一方面,调平完成进行对准,必须分离一定的对准间隙,也需要进行微调焦。
扫一扫,关注微信
地址:上海市杨浦区松花江路251弄白玉兰环保广场3号902室 传真:021-55781190
©2024 科睿设备有限公司 版权所有 All Rights Reserved.  备案号: