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电子束蒸发镀膜仪的百科介绍

更新时间:2023-05-19      点击次数:813
  一、1、样品衬底在蒸镀前可以通过离子枪进行清洁。2、样品台的三维转动(平面内和垂直于平面)。3、可以注入气体(特别是氧气),并且可控制其压强。4、蒸镀厚度控制:频率:10-4Hz;沉积速度分辨率:0.001nm/s;沉积厚度分辨率:0.01nm/s;沉积厚度可重复性:±1sxrate。
 
  二、1、真空度<2x10-7Torr(可达到3.0×10-8Torr)。2、电压源型号ST6;电压2-10kV可调,电子束流0-0.6A。3、样品台可以适用于6英寸晶片。4、电子枪离子电压:100-1000eV。
 
  三、直径4英寸基片,片内均匀性优于±3%,片间均匀性优于±2%,重复性优于±2%。
 
  四、真空蒸发镀膜是一种由物理方法产生薄膜材料的技术。该设备被广泛应用于在基底上制备均匀材料薄膜,从而对基底表面进行改性。系统的极限压强可达≤2x10-7Torr;三组热阻蒸发源;可储存100个工艺,1000层,50种薄膜;最大转速可达20转/分钟;最高加热温度不低于350℃。
 
  五、蒸发镀膜仪将蒸发材料放在坩埚内,坩埚放置在高真空腔体中,通过高压灯丝发射电子,电子通过磁场偏转轰击到坩埚内的蒸镀材料表面,对蒸镀材料进行加热,电子束蒸发源的能量可高度集中,使镀膜材料局部达到高温而蒸发,实现蒸发镀膜。根据不同材料的性质分为固态升华和液态蒸发,整个蒸发过程是物理过程,实现物质从源到薄膜的转移。装有蒸发材料的坩埚周围有冷却系统,避免坩埚内壁与蒸发材料发生反应影响薄膜质量。
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