简单介绍一下匀胶机跟旋涂仪的区别

 

功能侧重：匀胶机主要用于将粘合剂、涂料、胶水等物料均匀混合，并在混合后将其均匀地涂覆在基底上。旋涂仪则主要侧重于在基板上制备薄而均匀的薄膜，如光学薄膜、电池膜、导电膜等。

 

结构组成：匀胶机的主要结构部件包括搅拌桶、搅拌器、电机、减速机等，通过搅拌器的转动实现物料的混合，再利用旋转产生的离心力进行涂覆。旋涂仪通常包括转盘、加料器、刮刀、喷嘴、电机等，其重点在于精确控制液体的涂布过程，通过转盘的旋转和液体的流动形成薄膜。

 

涂布精度：匀胶机对混合粘度、温度等有较高要求，但涂布精度相对较低。旋涂仪主要用于薄膜涂布，涂布精度要求较高，一般可达数十纳米级别。

 

应用场景：匀胶机广泛应用于电子封装、印刷电路板制造等领域，用于涂覆胶水、阻焊剂等材料。旋涂仪则主要应用于半导体制造、光学器件制备、科研实验等领域，用于涂覆光刻胶、制备功能薄膜等。

 

实际上，匀胶机和旋涂仪在很多情况下功能相似，二者的界限并不十分清晰，一些设备可能同时具备匀胶和旋涂的功能。