一、单原子层逐次沉积，沉积层极均匀的厚度和优异的一致性等就体现出来，而沉积速度慢的问题就不重要了。以下主要讨论原子层沉积原理和化学，原子层沉积与其他相关技术的比较，原子层沉积设备，原子层沉积的应用和原子层沉积技术的发展。二、通过将气相前驱体脉冲交替地通入反应器并在沉积基体上化学吸附并反应而形成沉积膜的一种方法(技术)。当前驱体达到沉积基体表面，它们会在其表面化学吸附并发生表面反应。在前驱体脉冲之间需要用惰性气体对原子层沉积反应器进行清洗。由此可知沉积反应前驱体物质能否在被沉积...

盐雾气溶胶发生器是一种常见的实验设备，被广泛应用于材料表面腐蚀、防护和涂层等性能测试。其基本原理是将盐水喷雾加热，产生水蒸气并与空气混合，形成细小颗粒的盐雾气溶胶。这些气溶胶粒子具有不同的粒径范围，对于实验结果和应用效果具有重要影响。那么，盐雾气溶胶发生器的粒径范围是多少呢？首先，我们需要了解气溶胶粒径的定义和分类。气溶胶粒径是指气态物质中悬浮的微小颗粒的尺寸大小，通常用直径表示。根据粒径大小，气溶胶可以分为超细粒子（10μm）等几类。其中，气溶胶的细粒子和粗粒子对于环境污染...

一、1、样品衬底在蒸镀前可以通过离子枪进行清洁。2、样品台的三维转动(平面内和垂直于平面)。3、可以注入气体(特别是氧气)，并且可控制其压强。4、蒸镀厚度控制：频率：10-4Hz；沉积速度分辨率：0.001nm/s；沉积厚度分辨率：0.01nm/s；沉积厚度可重复性：±1sxrate。二、1、真空度三、直径4英寸基片，片内均匀性优于±3%，片间均匀性优于±2%，重复性优于±2%。四、真空蒸发镀膜是一种由物理方法产生薄膜材...

深能级瞬态谱仪（DeepLevelTransientSpectroscopy，简称DLTS）是一种常用于研究半导体材料中深能级缺陷的技术。半导体材料的性能和稳定性受到其中的深能级缺陷影响，因此了解这些缺陷的特性对于半导体器件的设计和开发至关重要。DLTS技术的基本原理是在半导体样品中注入一系列热激发电荷，并测量其释放和捕获过程所引起的电容变化。这些电荷会被深能级缺陷捕获，从而导致电容变化，因此可以通过分析这些变化来确定样品中存在的深能级缺陷的数量、位置、能量和捕获截面等参数。...

激光外延制备系统是一种重要的半导体材料生长技术，可以用于制备高质量、高纯度的晶体材料。以下是优化脉冲激光外延制备系统的生长速率和晶体质量的几个关键步骤：1、优化反应室气氛：反应室气氛对晶体生长速率和质量有很大影响。合适的气氛可以提高晶体生长速率和质量，并且可以降低晶体缺陷密度。使用高纯度气体或气体混合物可以减少杂质和不良反应。2、控制温度梯度：温度梯度是晶体生长过程中一个非常重要的因素。合适的温度梯度可以促进晶体的生长并减少晶体的缺陷。在反应室中设置均匀的加热器和冷却器可以控...

真空快速退火炉广泛应用于金属、陶瓷、粉末冶金等领域。在设备运行过程中，为了保证其正常工作，必须对其气密性进行检查。本文将介绍如何对真空退火炉进行气密性检查。气密性是指物体不透气的能力。在真空退火炉中，气密性指的是系统的真空状态是否稳定，并且系统内外压力差异是否小于一定范围。因此，我们需要通过以下步骤来检查气密性。第一步：准备工作检查前需要关闭真空退火炉，并确保其处于常温下。同时，需要准备柿子水或其他检漏剂。第二步：覆盖检漏剂用柿子水或其他检漏剂涂抹到所有可能漏气的部位，例如接...