一、光刻机(lithography)又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。二、组成步骤：利用模版去除晶圆表面的保护膜、将晶圆浸泡在腐化剂中，失去保护膜的部分被腐蚀掉后形成电路、用纯水洗净残留在晶圆表面的杂质、模版和晶圆大小一样，模版不动、模版和集成电路大小一样，模版随曝光机聚焦部分移动。三、曝光机是生产大规模集成电路的核心设备，制造和维护需要高度的光学和电子工业基础，世界上只...

一、应用原理：(1)该仪器利用发送声波脉冲，测量接收端的时间或频率(多普勒变换)差别来计算风速和风向的测量传感器或测量仪器。(2)是超声波检测技术在气体介质中的一种应用它是利用超声波在空气中传播速度受空气流动(风)的影响来测量风速的。属于无惯性测量，故能准确测出自然风中阵风脉动的高频成分，结合现代计算机技术，可在更高层次上揭示自然风的特性对于提高抗风减灾能力和风资源的合理利用有重大意义。(3)具有重量轻、没有任何移动部件、坚固耐用的特点，而且不需维护和现场校准，能同时输出风速...

激光直写无掩膜光刻机是一种利用图形化DMD微镜矩阵控制的直写曝光光刻设备。该设备可以在无需曝光掩膜版的条件下，根据用户研究需要，直接在光刻胶样品表面上照射得到含有3D灰度信息的曝光图案，为微流控、MEMS、半导体、自旋电子学等研究领域提供方便高效的微加工方案。此外，它还具备结构紧凑（70cm×70cm×70cm）、高直写速度，高分辨率（XY~0.6μm）的特点。采用集成化设计，全自动控制，可靠性高，操作简便。目前在国内拥有包括清华大学、北京大学、中国科技大学、南京大学等100...

一、光刻机是掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。二、分类：手动：指的是对准的调节方式，是通过手调旋钮改变它的X轴，Y轴和thita角度来完成对准，对准精度可想而知不高了；半自动：指的是对准可以通过电动轴根据CCD的进行定位调谐；自动：指的是从基板的上载下载，曝光时长和循环都是通过程序控制，自动光刻机主要是满足工厂对于处理量的需要。三、技术指标：(1)支持基片的尺寸范围，分辨率、对...

固体气溶胶发生器是一种用于各种实验中的科学实验设备，这类气溶胶发生器，都采用特殊的喷油嘴设计。喷头喷雾能产生次微米的多种直径的油雾悬浮粒子，这类实验设备经常与光度计被用于高效的空气过滤系统中完整性测试或查找泄露源测试。任何一个仪器设备在使用的时候都需要格外细致，不仅要在用后做好相关的维护保养工作，使用前的全面了解也是非常有必要的，那么我们在使用固体气溶胶发生器的前后都需要做点什么工作呢？一、使用前的检验查看：1、检查电源线。如果发现电源线已老化并且插头已损坏，请在必要时更换新...

气溶胶发生器具有准确、快速、能提供高浓度的单分散性气溶胶的特点，它可以产生高度均匀分散的固体或液体粒子(可用于荧光或放射性标记)，粒数浓度可以超过1000000/cm3，它可以产生球形的几乎电中性的气溶胶粒子，粒径范围为0.5～8μm，颗粒尺寸和浓度可以很容易人为控制。它具有紧凑、轻质和易维护等特点，它可以满足任何要求产生高浓度均匀分散气溶胶的应用，这包括人体和动物暴露研究；滤料效率测试；颗粒物筛分仪器的评价和校准；烟气探测器的性能分析；为风洞产生粒子；为激光多普勒速度计产生...