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磁控溅射镀膜提高了膜的质量和牢固度

发布时间:2020-11-24      点击次数:390
  磁控溅射镀膜由真空镀膜系统和真空手套箱系统集成而成,可在高真空蒸镀腔室中完成薄膜蒸镀,并在手套箱高纯惰性气体氛围下进行样品的存放、制备以及蒸镀后样品的检测。
  蒸发镀膜与手套箱组合,实现蒸镀、封装、测试等工艺全封闭制作,使整个薄膜生长和器件制备过程高度集成在一个完整的可控环境氛围的系统中,消除有机大面积电路制备过程中大气环境中不稳定因素影响,保障了高性能、大面积有机光电器件和电路的制备,用于制备各种金属膜、半导体膜、介质膜、磁控膜、光学膜、超导膜、传感膜以及各种特殊需求的功能薄膜。
  磁控溅射镀膜用于纳米级单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备,可广泛应用于大专院校、科研院所的薄膜材料的科研与小批量制备,同时设备具有反溅射清洗功能,以提高膜的质量和牢固度。系统主要由溅射真空室、永磁磁控溅射靶(2个靶)、单基片加热台、直流电源、射频电源、工作气路、抽气系统、真空测量、电控系统及安装机台等部分组成。
  设备配有阳极层离子源,可对样品进行清洗,同时,可在镀膜时,对样品进行辅助沉积,用于反应气体进气和氩气气路,具有混气功能;腔内气压可测可调可控。溅射室烘烤照明采用红外加热除气方式,真空室内有衬板,避免溅射材料直接溅射到溅射室真空壁上。设备具有断水断电连锁保护功能,有防止误操作保护功能,系统采用手动控制膜制备过程可控制靶挡板、样品转动、样品控温等。
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