激光直写无掩膜光刻机是一种利用图形化DMD微镜矩阵控制的直写曝光光刻设备。该设备可以在无需曝光掩膜版的条件下，根据用户研究需要，直接在光刻胶样品表面上照射得到含有3D灰度信息的曝光图案，为微流控、MEMS、半导体、自旋电子学等研究领域提供方便高效的微加工方案。此外，它还具备结构紧凑（70cm×70cm×70cm）、高直写速度，高分辨率（XY~0.6μm）的特点。采用集成化设计，全自动控制，可靠性高，操作简便。目前在国内拥有包括清华大学、北京大学、中国科技大学、南京大学等100...

一、光刻机是掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。二、分类：手动：指的是对准的调节方式，是通过手调旋钮改变它的X轴，Y轴和thita角度来完成对准，对准精度可想而知不高了；半自动：指的是对准可以通过电动轴根据CCD的进行定位调谐；自动：指的是从基板的上载下载，曝光时长和循环都是通过程序控制，自动光刻机主要是满足工厂对于处理量的需要。三、技术指标：(1)支持基片的尺寸范围，分辨率、对...

固体气溶胶发生器是一种用于各种实验中的科学实验设备，这类气溶胶发生器，都采用特殊的喷油嘴设计。喷头喷雾能产生次微米的多种直径的油雾悬浮粒子，这类实验设备经常与光度计被用于高效的空气过滤系统中完整性测试或查找泄露源测试。任何一个仪器设备在使用的时候都需要格外细致，不仅要在用后做好相关的维护保养工作，使用前的全面了解也是非常有必要的，那么我们在使用固体气溶胶发生器的前后都需要做点什么工作呢？一、使用前的检验查看：1、检查电源线。如果发现电源线已老化并且插头已损坏，请在必要时更换新...

气溶胶发生器具有准确、快速、能提供高浓度的单分散性气溶胶的特点，它可以产生高度均匀分散的固体或液体粒子(可用于荧光或放射性标记)，粒数浓度可以超过1000000/cm3，它可以产生球形的几乎电中性的气溶胶粒子，粒径范围为0.5～8μm，颗粒尺寸和浓度可以很容易人为控制。它具有紧凑、轻质和易维护等特点，它可以满足任何要求产生高浓度均匀分散气溶胶的应用，这包括人体和动物暴露研究；滤料效率测试；颗粒物筛分仪器的评价和校准；烟气探测器的性能分析；为风洞产生粒子；为激光多普勒速度计产生...

相对于传统的机械式测风设备，超声波风速计有自己的优势：没有旋转或移动的部件，可靠性提高明显，几乎不需要维护。机械式风速仪的风杯和风向标都有自身的惯性，测量部件本身就变成了一个天然存在的滤波器，使得快速变化的风速被滤掉测量不到。而超声波风速仪不会有这个问题，要测量那些快速变化的阵风，包括风向的瞬间变化都可以测量得到。一个好的超声波风速计，可以帮助人们解决风速仪结冰的困扰。相对于机械式，超声波风速仪可以设计更理想的加热方案，从根本上解决冰冻问题。因此，抗冰冻是很多业主选择超声波风...

手动探针台：手动探针台是手动控制的，这意味着晶圆载物台、显微镜以及定位器/操纵器都是由使用者手动移动的。因此一般是在没有很多待测器件需要测量或数据需要收集的情况下使用手动探针台。该类探针台的优点之一是只需要最少的培训，易于配置环境和转换测试环境，并且不需要涉及额外培训和设置时间的电子设备、PC或软件。由于其灵活和可变性高的特点，非常适合研发人员使用。半自动探针台：半自动探针台是一种用于信息科学与系统科学领域的分析仪器，于2004年3月17日启用。支持4，5，6寸wafer分辨...