快速化学淬灭系统保证其优良的强度性能

   快速化学淬灭系统在液液混合装置、细胞收集装置和电磁反馈控制装置共同作用下，细胞培养液与低温细胞淬灭溶液得到充分混合，且细胞可瞬间降至低温，有效抑制酶活力、代谢淬灭*，引入电磁反馈控制装置和真空泵使终点的淬灭溶剂浓度可控，实现细胞培养液与低温细胞淬灭溶液体积比的准确控制，使胞内代谢物数据真实可靠，各装置之间相辅相成，实现对细胞进行及时、*代谢淬灭。

   快速化学淬灭系统采用上述系统进行代谢淬灭的方法，简单易行，准确率高，为微生物、动物以及植物细胞的胞内代谢物研究提供技术支持。荧光淬灭是指荧光分子由内部因素和外部因素同时作用造成的不可逆破坏，内部因素主要是分子从激发态回到基态以非辐射跃迁形式释放能量，外部因素则包含多方面。

   光照射是致荧光淬灭的常见原因，荧光的产生需要光照射，但同时光照射也会促进激发态分子与其他分子相互作用而引起碰撞，使荧光淬灭；标记样品的荧光淬灭是在荧光显微镜和激光共聚焦显微镜观察时遇到的主要问题。快速化学淬灭系统具有更强的功率和聚焦更准确的光束，与普通荧光显微镜相比，标本的光漂白作用更为明显，荧光素的荧光可在连续观察过程中逐渐减弱或消失。

   快速化学淬灭系统电路采用相同的结构框架，结合主动、门控两种淬灭方式，通过电阻或电容感应雪崩电流，采用基于失调控制的差分放大低阈值检测电路，打破传统设计中淬灭电路的检测阈值必须大于MOS管开启电压的约束，实现对雪崩电流的快速检测。

   快速化学淬灭系统具有高增益、低功耗、小体积等特点，可以快速分辨并响应单光子信号，现已被广泛地应用在单光子探测系统中。目前，单光子探测技术正在向集成大阵列方向发展，阵列的一致性探测成为重要性能指标。对于击穿电压的非均匀性现象，快速化学淬灭系统的设计对单光子阵列探测系统的性能起着关键作用。