英国KP开尔文探针扫描（KPFM）主要应用于化学领域、电化学领域和材料领域，开展表面无损分析、样品表面形貌三维图绘制、测量导体材料的表面功函数或半导体、绝缘表面的表面势等。由于KPFM测量是AFM针尖与样品之间的接触电势差，因此需要首先说明AFM的工作原理。AFM的操作具有三种模式：分别为接触模式、轻敲模式和非接触模式。在接触模式操作中，AFM的针尖接触样品表面，针尖和样品之间排斥力使与针尖相连的悬臂偏转，悬臂的偏转被测量并用作反馈信号。在其他两个模式下，悬臂以接近共振的频率...

一、气溶胶发生器，产生遮蔽或毒剂气溶胶，用于电子干扰或毒害生灵的装置。有气悬体发生器、发烟罐、榴弹、炮弹、航空等。二、简单工作原理介绍：当压缩空气从输入口进入后，通过喷嘴下端的小孔进入阀座的腔室内，在截止阀的钢球上下表面形成差压。由于泄漏和弹簧的作用，钢球处于中间位置，压缩空气进入存油杯的上腔，油面受压，压力油经吸油管将单向阀的钢球顶起，钢球上部管道有一个方型小孔，钢球不能将上部管道封死，压力油不断流入视油器内，再滴入喷嘴中，被主管气流从上面的小孔引射出来，雾化后从输出口输出...

2018年以来，ISO16890已经完全取代之前EN779，成为空气过滤器分类的国际有效测试标准。ISO16890的导入标志着行业范式的转变。ISO16890是根据对不同粒径颗粒物（PM）的过滤效率对空气过滤器进行分类，这使我们更加直观地看到空气过滤器产品与空气污染物的直接联系，同时也更加的清晰室内空气质量（IAQ）与人体健康关联。ISO16890与EN779标准与EN779相比，根据ISO16890进行的测试程序更有区分度，ISO16890根据三种不同粒径的颗粒物分组计算过...

一、光刻机(lithography)又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。二、组成步骤：利用模版去除晶圆表面的保护膜、将晶圆浸泡在腐化剂中，失去保护膜的部分被腐蚀掉后形成电路、用纯水洗净残留在晶圆表面的杂质、模版和晶圆大小一样，模版不动、模版和集成电路大小一样，模版随曝光机聚焦部分移动。三、曝光机是生产大规模集成电路的核心设备，制造和维护需要高度的光学和电子工业基础，世界上只...

一、应用原理：(1)该仪器利用发送声波脉冲，测量接收端的时间或频率(多普勒变换)差别来计算风速和风向的测量传感器或测量仪器。(2)是超声波检测技术在气体介质中的一种应用它是利用超声波在空气中传播速度受空气流动(风)的影响来测量风速的。属于无惯性测量，故能准确测出自然风中阵风脉动的高频成分，结合现代计算机技术，可在更高层次上揭示自然风的特性对于提高抗风减灾能力和风资源的合理利用有重大意义。(3)具有重量轻、没有任何移动部件、坚固耐用的特点，而且不需维护和现场校准，能同时输出风速...

激光直写无掩膜光刻机是一种利用图形化DMD微镜矩阵控制的直写曝光光刻设备。该设备可以在无需曝光掩膜版的条件下，根据用户研究需要，直接在光刻胶样品表面上照射得到含有3D灰度信息的曝光图案，为微流控、MEMS、半导体、自旋电子学等研究领域提供方便高效的微加工方案。此外，它还具备结构紧凑（70cm×70cm×70cm）、高直写速度，高分辨率（XY~0.6μm）的特点。采用集成化设计，全自动控制，可靠性高，操作简便。目前在国内拥有包括清华大学、北京大学、中国科技大学、南京大学等100...