随着微电子技术和纳米技术的快速发展,光刻技术成为了半导体制造和高精度微加工中的核心技术。尤其是半自动光刻机,凭借其较高的性价比和较为灵活的操作模式,已经在许多高精度微加工领域中得到了广泛应用。一、半自动光刻机的工作原理光刻技术通过利用光敏材料(光刻胶)在紫外光或激光照射下发生化学...
激光直写提高工作量和用户安全程度激光直写光刻机是桌面型高分辨率激光光刻系统,它通过固定连续的375nm或405nm紫外光源在光刻胶或紫外敏感胶中直接刻划获得微纳结构,直写面积高达4英寸,特征尺寸(宽度)可达1微米。激光直写光刻机提供竖直和扫描直写模式,确保直接轨迹偏离小于100nm,具有电动光学聚焦系统,提供快速的聚焦功能,从而适合各种厚度衬底的要求,并具有晶圆装载和卸载系统装备到衬底室供客户选配,增强清洁程度,提高工作量和用户安全程度。激光直写不仅具有无掩模板直写系统的灵活...
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