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脉冲激光沉积的特点及优势介绍
点击次数:84 发布时间:2020-07-14
  脉冲激光沉积是将激光聚焦于靶材上一个较小的面积,利用激光的高能量密度将部分靶材料蒸发甚至电离,使其能够脱离靶材而向基底运动,进而在基底上沉积,从而形成薄膜的一种方式。
  在众多的薄膜制备方法中,激光沉积技术的应用较为广泛,可用来制备金属、半导体、氧化物、氮化物、碳化物、硼化物、硅化物、硫化物及氟化物等各种物质薄膜,甚至还用来制备一些难以合成的材料膜,如金刚石、立方氮化物膜等。
  脉冲激光沉积系统配置:生长室,进样室可选;水平、垂直两种靶台可选;激光加热和辐射加热两种样品台可选,激光加热温度1200℃;工艺气路可以任意搭配;其它可选项如臭氧发生器,离子源,掩膜系统等。
  脉冲激光沉积系统特点及优势:可根据客户需求定制产品,灵活性高,并提供专业的技术支持;靶台可以安装6个靶位,靶材更换灵活;样品台样品尺寸从10x10mm样品到2英寸样品均适用;进样室可以存储多个靶和样品。
  特点:1.系统可根据客户的特殊要求设计,操作简单方便,可使用大尺寸靶材生长大面积薄膜;
  2.电抛光腔体,主腔呈方形,其前部是铰链门,方便更换基底和靶材;
  3.双轴磁性耦合旋转靶材操纵器,可手动或计算机控制选定靶材。磁力杆传送基底到基底旋转器上,可手动或电动降低旋转器,实现简单快速地更换;
  4.主腔室预留备用的腔口,如用于观察靶材和基底,安装原子吸收或发射光谱仪、原位椭偏仪、离子枪或磁控溅射源、残留气体分析器和离子探针或其他的元件等等。
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