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多探针扫描探针显微镜(Multi-probe SPM)

简要描述:

1)开放式构架,模块化设计——从单探针开始升级到独立双探针系统,继而升级到三探针、四探针系统

2)与光学显微镜完全兼容,这是由独特的探针及扫描器设计所决定的

3)可在线与微拉曼光谱、扫描电镜、聚焦离子束等技术联用

4)探针扫描与样品扫描可结合使用

5)除成像外,可结合使用多种类型探针,如近场光学探针、电学测量探针、热传导测量及纳米加热探针、化学传输探针等

更新时间:2015-06-29

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独立操作的多探针扫描探针显微技术(SPM)一直是SPM发展的梦想,随着mv-4000正式推向市场,这个梦想变成了现实。独立多探针扫描探针显微镜(AFM&NSOM)在许多以前不可能实现的领域一显身手,包括:
1)使用多探针进行纳米尺度表面电阻测量,双探针可以构建一组纳米尺度的四点探针;
2)热传导测量+电学测量相结合,研究形貌与热、电相结合的材料纳米特性;
3)多NSOM探针进行光学测量,zui简单的应用为一根探针将光引入光学元件、另一根探针从光学元件再将光收集;
4)一探针对材料进行光或热降解,另一探针将降解的成分引入其他设备进行化学分析;
5)一探针进行纳米化学书写,另一探针进行成像监控;
6)一探针进行纳米压痕,另一探针同时进行成像及热扫描……
这只是多探针扫描探针显微镜应用的开始,重要的是mv-4000可以为科学家搭建一个多纳米手的多功能平台,来满足纳米材料科学家们许多独特的想法,而这些想法用传统的SPM技术并不能够实现。
告诉我们您的想法,我们来帮您实现吧!
 
产品规格:
1)  操作模式
原子力显微镜(AFM)
敲击模式,接触模式(选配),所有探针或样品扫描的AFM操作模式
近场扫描光学显微镜(NSOM)
透射模式,反射模式,收集模式,照明模式
微分干涉对比(DIC)
反射和透射
折射率成像(Refractive-Index Profiling)
反射和透射
热传导及扩展电阻成像
接触模式,敲击模式,音叉反馈模式(无反馈激光引入干扰信号,选配)
在线远场共聚焦(和拉曼及荧光光谱成像)
反射和透射,针对选择性拉曼散射超薄膜的探针增强拉曼散射
纳米蚀刻(NanoLithography)
NanoFountainPen传输化学物质和气体,近场光刻及其他传统纳米蚀刻如电致氧化等,另一根探针进行在线分析
纳米压痕(NanoIndentation)
兆帕力的应用,精确定位及力的控制,另一根探针进行在线分析
 
以上所有功能都可以与在线AFM成像完全兼容
2)  SPM扫描头规格
样品扫描器
压电材料制薄片扫描器 (3D Flat Scanner™)   厚度为7毫米
探针扫描器
zui多四个独立控制的压电材料制薄片扫描器模块 (3D Flat Scanner™)   厚度为7毫米
扫描范围
探针扫描模式,每只探针扫描范围: 30 microns (XYZ)
样品扫描模式,扫描范围: 100 microns (XYZ)
样品和探针扫描模式,扫描范围:  130 microns (XYZ)
样品和两个探针扫描模式,扫描范围:  160 microns (XY)
扫描分辨率
< 0.05 nm (Z)
< 0.15 nm (XY)
< 0.02 nm (XY) 低电压模式
粗调定位
样品粗调定位:XY马达控制台– 范围5毫米 – 分辨率0.25微米
探针粗调定位:XY马达控制台– 范围5毫米 – 分辨率0.25微米
              Z马达控制台– 范围10毫米 – 分辨率0.065微米
反馈机制
音叉反馈,悬臂梁光束反弹反馈(选配)
样品几何要求
样品尺寸:标准配置下,直径zui大至16毫米
                    正置显微镜下使用,直径zui大至34毫米
                    只使用探针扫描, 直径zui大至55毫米 
          可按客户要求定制大尺寸样品操作仪器,直径zui大至8英寸
特殊样品形状:如竖直样品进行边缘成像等
探针
各种针尖外露的玻璃探针,各种常规悬臂梁硅探针均可使用
3)  成像分辨率
远场
受光衍射几何限制
光学
500纳米
共聚焦
200纳米
近场扫描光学
100纳米,极端条件下可达到50纳米(由探针孔径决定)
形貌
Z向噪声0.05纳米 rms.
XY横向分辨率:由针尖直径和样品的卷积决定
热成像
100纳米起,温度灵敏度0.01ºC,300 ºC或更高(由样品决定)
电阻成像
25纳米起
 

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