飞行时间二次离子质谱2-材料表征 飞行时间二次离子质谱是一种灵敏的表面分析技术,可以广泛应用于物理,化学,微电子,生物,制药,空间分析等工业和研究方面。TOF-SIMS可以提供表面,薄膜,界面以至于三维样品的元素,分子等结构信息。
深能级瞬态谱仪2-半导体表征 深能级瞬态谱仪是半导体领域研究和检测半导体杂质、缺陷深能级、界面态等的重要技术手段!测试功能:电容模式、定电容模式、电流模式、(双关联模式)、光激发模式、FET分析、MOS分析、等温瞬态谱、Trap profiling、俘获截面测量、I/V,I/V(T) 、C/V, C/V(T) 、TSC/TSCAP 、光子诱导瞬态谱、DLOS。
深能级瞬态谱仪-半导体表征 半导体领域研究和检测半导体杂质、缺陷深能级、界面态等的重要技术手段。根据半导体P-N 结、金-半接触结构肖特基结的瞬态电容(△C~t)技术和深能级瞬态谱(DLTS)的发射率窗技术测量出的深能级瞬态谱
英国KP开尔文探针扫描-半导体表征 英国KP开尔文探针扫描是一种非接触无损震荡电容装置,用于测量导体材料的功函数(Work Function)或半导体、绝缘表面的表面势(Surface Potential)。材料表面的功函数通常由Z上层的1-3层原子或分子决定,所以开尔文探针是一种Z灵敏的表面分析技术。
开尔文探针扫描系统-半导体表征 开尔文探针扫描系统是一种非接触无损震荡电容装置,用于测量导体材料的功函数(Work Function)或半导体、绝缘表面的表面势(Surface Potential)。材料表面的功函数通常由Z上层的1-3层原子或分子决定,所以开尔文探针是一种Z灵敏的表面分析技术。
飞行时间二次离子质谱-材料表征 飞行时间二次离子质谱是一种非常灵敏的表面分析技术。可以广泛应用于物理,化学,微电子,生物,制药,空间分析等工业和研究方面。TOF-SIMS可以提供表面,薄膜,界面以至于三维样品的元素,分子等结构信息。
半自动划片机/切片机(6英寸)-半导体材料 适用于 6 英寸晶圆– 6 英寸硅晶圆 – 紧凑尺寸的占地面积(宽 x 深 = 590 x 880) – 多处安装划片 可划片的样品: 硅晶圆, PCB, QFN, PBGA, 陶瓷, 石英玻璃, LED,移动式蓝色玻璃滤光片、碳化硅等
半自动划片机(8英寸,12英寸)-半导体材料 – 最大 16 英寸 – 重复精度(Y 轴) : 0.001 – 可选 3 英寸刀片、BBD(刀片断裂检测仪)、NCS(非接触式传感器) – 真空卡盘:6~12英寸
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