飞行时间二次离子质谱是一种灵敏的表面分析技术，可以广泛应用于物理，化学，微电子，生物，制药，空间分析等工业和研究方面。TOF-SIMS可以提供表面，薄膜，界面以至于三维样品的元素，分子等结构信息。

深能级瞬态谱仪是半导体领域研究和检测半导体杂质、缺陷深能级、界面态等的重要技术手段！测试功能：电容模式、定电容模式、电流模式、（双关联模式）、光激发模式、FET分析、MOS分析、等温瞬态谱、Trap profiling、俘获截面测量、I/V,I/V（T） 、C/V, C/V（T） 、TSC/TSCAP 、光子诱导瞬态谱、DLOS。

深能级瞬态谱仪1半导体领域研究和检测半导体杂质、缺陷深能级、界面态等的重要技术手段。根据半导体P-N 结、金－半接触结构肖特基结的瞬态电容（△C～t）技术和深能级瞬态谱（DLTS）的发射率窗技术测量出的深能级瞬态谱

英国KP开尔文探针扫描是一种非接触无损震荡电容装置，用于测量导体材料的功函数（Work Function）或半导体、绝缘表面的表面势（Surface Potential）。材料表面的功函数通常由Z上层的1-3层原子或分子决定，所以开尔文探针是一种Z灵敏的表面分析技术。

开尔文探针扫描系统是一种非接触无损震荡电容装置，用于测量导体材料的功函数(Work Function)或半导体、绝缘表面的表面势(Surface Potential)。材料表面的功函数通常由Z上层的1-3层原子或分子决定，所以开尔文探针是一种Z灵敏的表面分析技术。

飞行时间二次离子质谱1是一种非常灵敏的表面分析技术。可以广泛应用于物理，化学，微电子，生物，制药，空间分析等工业和研究方面。TOF-SIMS可以提供表面，薄膜，界面以至于三维样品的元素，分子等结构信息。

适用于 6 英寸晶圆– 6 英寸硅晶圆 – 紧凑尺寸的占地面积（宽 x 深 = 590 x 880） – 多处安装划片 可划片的样品： 硅晶圆， PCB， QFN， PBGA， 陶瓷， 石英玻璃， LED，移动式蓝色玻璃滤光片、碳化硅等

半自动划片机/切片机 （8英寸，12英寸） – 最大 16 英寸 – 重复精度（Y 轴） ： 0.001 – 可选 3 英寸刀片、BBD（刀片断裂检测仪）、NCS（非接触式传感器） – 真空卡盘：6~12英寸