产品列表PRODUCTS LIST
基质辅助脉冲激光沉积系统The polymer material will then deposit on the substrate while the solvent will be pumped away (if you choose the correct solvent). This process has been used to successfully deposit a wide
更新时间:2018-12-11
基质辅助脉冲激光沉积系统
仪器简介:
中科院宁波材料所于2014年1月向我司订购一台MAPLE系统,该系统为国内首台“基质辅助脉冲激光沉积系统”!
MAPLE处理过程
在MAPLE工艺中,聚合物/溶剂混合物用液氮冻结在沉积室内。然后,冷冻混合物作为入射脉冲激光束的目标。使用脉冲激光,一小部分冷冻目标将在非常短的时间内蒸发,将混合物扔进气相。聚合物材料随后沉积在基板上,而溶剂将被泵走(如果你选择正确的溶剂)。这一过程已被用于成功地沉积各种各样的聚合物材料。
激光器
最初的MAPLE工作使用准分子激光器,但是IR激光器提供更好的聚合物薄膜质量。原因是准分子激光器的每光子能量在5 eV以上的248 nm(KrF)处工作。这足以破坏聚合物链并降低沉积的聚合物材料的功能性。MAPLE系统使用Er:YAG激光器,工作在2.9微米,每个光子只有大约0.3eV的能量。因此,聚合物的功能性保持完整,因为聚合物链不被低能光子断裂。.
样品注入
MAPLE系统采用独特的注射工艺,在清洗了水蒸气室之后,使聚合物/溶剂混合物原位冻结。我们的MAPLE系统利用快速目标冷却和快速目标加热组件来最大化吞吐量。我们的旋转目标组件与冷却块进行良好的热接触
腔体设计
系统技术指标:
最大衬底尺寸
One 2-inch diameter substrate or multiple small samples. Larger substrates and custom substrate holders are available on request.
最大衬底温度:300°C typical, but other heaters are available.
MAPLE靶材温度: -194°C (80 K)
压力操作范围:Base pressure depends strongly on polymer/solvent mix and the solvent vapor pressure
MAPLE靶材尺寸:Single 1.5” diameter target standard, larger targets available on request.
靶材到衬底(Throw) 距离:Variable from 2.5 to 4 inches
光栅路径长度:Across complete MAPLE target
标准的激光束射向靶材入射角度:60°
主腔体本底真空:P < 5 x 10-7 Torr guaranteed with system at room temperature and no polymer/solvent mix.
真空腔体:Box style chamber with easy substrate / target changes.
激光波长:2.9 microns (Er:YAG laser), other lasers/wavelengths available on request.
VIS/NIR Resonant PLD/MAPLE 处理过程
这个过程使用倍频Nd:YAG激光器泵浦OPO。OPO的输出范围约为680~2400 nm,脉冲长度为几ns。在VIS中,每个脉冲的能量在波长范围从120mJ变化很大,而在IR中则下降到15mj。通过调谐激光器的波长,用户可以耦合到特定材料的振动带,从而提供到目标材料的非常强的耦合。这可以产生很高的沉积速率,特别是对于聚合物材料的目标损伤小。这个过程也可以和MpPialGART一起使用。