多种薄膜沉积设备，PECVD、ALD、PLD、MBE、磁控溅射、电子束蒸发、热蒸发等。详细介绍请登陆公司网页。http://www.cross-tech.com.cn/

脉冲激光外延制备系统凭借着优异的性能, PVD公司生产的脉冲激光沉积分子束外延系统在国内外拥有较多用户，为众多老师开启薄膜外延制备的新篇章，用分子束外延进行半导体材料、ZnO、GaN、SiGe和金属/氧化物外延生长。

该ALD拥有达到或超过市场上其他品牌的功能，同时易于使用和维护 - 成本低于当今市场上的价格 腔室温度：室温到325°C±1°C; 前躯体温度从室温到 150 °C ± 2 °C（带加热夹套） 市场上最小的占地面积（2.5 平方英尺），台式 安装和洁净室兼容 简单的系统维护和实用程序和 市场上的前体使用 流线型腔室设计和小腔室体积 快速循环能力 全硬件和软硬件联锁，即使操作安全 在多用户环境中

磁控溅射镀膜机具有射频溅射，直流溅射，脉冲直流溅射；304不锈钢圆柱形腔体，标准直径有18英寸和24英寸，手动传片或自动传片,适合各种形状尺寸的小片到200mm大的圆片，高真空背景传递，可加热，冷却，偏压，旋转。

sputter coater多功能磁控溅射仪包含大多数的真空薄膜镀层技术，电子束蒸发，溅射沉积。这样我们在一台设备上可以灵活运用多种膜生长技术,针对各种不同大小和形状的样品,非常方便切换沉积模式。

脉冲激光沉积真空腔内照射到成膜靶上，靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume状等离子体状态，然后被堆积到设在对面的基板上而成膜。PLD方法可以获得拥有热力学理论上准稳定状态的组成和构造的人工合成新材料。

狭缝挤出式涂布机粘度范围：1-20000cps，应用衬底：玻璃， PET聚酯， 纸张，幅宽：90mm, 120mm, 300mm。

这款来自美国的微型磁控溅射系统满足研究所和研发部门对真空薄膜沉积的性能要求，占用空间小，具有超高的性价比，可以向客户提供优质的服务。