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离子束刻蚀系统

简要描述:

离子束刻蚀系统离子抛光
离子清洗
等离子体灰化
等离子体氧化、氮化
表面改性
反应刻蚀
生物医药
传感器

更新时间:2018-12-03

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离子束刻蚀系统

仪器应用:
离子抛光
离子清洗
等离子体灰化
等离子体氧化、氮化
表面改性
 反应刻蚀
 生物医药
传感器

离子束刻蚀系统技术参数:
1,真空系统:
尺寸: 72英寸X 50英寸
真空泵:分子泵+机械泵
本底真空:1X10E-7Torr
2, 样品台:
样品大小:150mm
处理角度:0-180度
旋转速度:0-20RPM
冷却:水冷
3, 离子源
孔径:22厘米
栅格:2个,钼材质
激发:RF射频
电性中和:PBN
束流: 200-1000V, 0-1000mA
工作气体:Ar,Xe,N2,O2,CF4,SF6,CH4,C2H6
SIMS终点监测

主要特点:
RF or DC 离子源, 8-22厘米Gridded Kaufman离子源
单片样品传输腔
高效率高产量,低能量等离子体源
最大直径至150毫米样品表面处理
<3% 非均匀性
 水冷,倾斜,旋转
操作简便,小型设备,皮实耐用
SIMS终点监测
全部电脑操作
反应离子刻蚀
单片样品台/三片行星式旋转样品台

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