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台式磁控溅射仪

简要描述:

台式磁控溅射仪
该系统可以作为以下功能装置:
1,研发级R&D镀膜设备,性能优异
2,具备所有研发级别的镀膜要求
3,高效的沉积速率,镀膜时间快
4, 实验室中培训的最工具

更新时间:2018-12-03

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台式磁控溅射仪

该系统可以作为以下功能装置:
1,研发级R&D镀膜设备,性能优异
2,具备所有研发级别的镀膜要求
3,高效的沉积速率,镀膜时间快
4, 实验室中培训的最工具
台式磁控溅射仪

主要的特点和先进的功能:
1, 台式,小型,快速
2,全自动化程序控制
3,单靶或多靶联合溅射镀膜,多路气体管路
4,共聚焦设计,靶枪尺寸:2英寸,3英寸,4英寸,衬底可做到200mm,旋转1-20RPM,以及Load-lock配置
5,配置干泵+分子泵,可达高真空,适用高品质薄膜沉积。
6, 可做直流溅射,射频溅射,100W射频偏压(用于衬底表面清洗)

性能价格比高!!

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