产品列表PRODUCTS LIST

首页>产品中心>科睿其他产品>超高真空工作配件>磁控溅射源/靶枪(1英寸/2英寸/3英寸)
磁控溅射源/靶枪(1英寸/2英寸/3英寸)

简要描述:

磁控溅射源/靶枪(1英寸/2英寸/3英寸)我们提供多种口径的圆形平面靶枪,尺寸1“, 2“ and 3“. 以及矩形靶枪
安装法兰口径:NW63CF,NW100CF
真空腔体内长度范围:150-400mm
真空腔体内端面直径:60-96
靶材直径: 1“, 2“ and 3“
靶材最大厚

更新时间:2018-12-11

发邮件给我们:1617579497@qq.com

分享到: 1
在线留言

磁控溅射源/靶枪(1英寸/2英寸/3英寸)

技术参数:
我们提供多种口径的圆形平面靶枪,尺寸1", 2" and 3". 以及矩形靶枪
安装法兰口径:NW63CF,NW100CF
真空腔体内长度范围:150-400mm
真空腔体内端面直径:60-96
靶材直径: 1", 2" and 3"
靶材最大厚度:4-6mm
冷却:水冷
磁控溅射源/靶枪(1英寸/2英寸/3英寸)
特点:
100%超高真空(UHV)应用
独有的放射性沉积模式
在线Z轴驱动及倾斜
水冷时不会存在水汽
平衡靶和非平衡靶设计
高强度磁体应用于磁性材料

应用领域:
PVD沉积
金属涂层
纳米结构薄膜
多层镀层
反应溅射
射频溅射,直流溅射,脉冲直流溅射
硬质涂层

留言框

  • 产品:

  • 留言内容:

  • 您的单位:

  • 您的姓名:

  • 联系电话:

  • 常用邮箱:

  • 详细地址:

  • 省份:

  • 验证码:

    请输入计算结果(填写阿拉伯数字),如:三加四=7
在线客服
电话
021-56035615
手机
13916855175