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磁控溅射源/靶枪(1英寸/2英寸/3英寸)

简要描述:磁控溅射源/靶枪(1英寸/2英寸/3英寸)我们提供多种口径的圆形平面靶枪,尺寸1“, 2“ and 3“. 以及矩形靶枪
安装法兰口径:NW63CF,NW100CF
真空腔体内长度范围:150-400mm
真空腔体内端面直径:60-96
靶材直径: 1“, 2“ and 3“
靶材大厚

  • 产品型号:
  • 厂商性质:代理商
  • 更新时间:2018-12-11
  • 访  问  量:1274

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详细介绍

磁控溅射源/靶枪(1英寸/2英寸/3英寸)

技术参数:
我们提供多种口径的圆形平面靶枪,尺寸1", 2" and 3". 以及矩形靶枪
安装法兰口径:NW63CF,NW100CF
真空腔体内长度范围:150-400mm
真空腔体内端面直径:60-96
靶材直径: 1", 2" and 3"
靶材最大厚度:4-6mm
冷却:水冷
磁控溅射源/靶枪(1英寸/2英寸/3英寸)
特点:
100%超高真空(UHV)应用
独有的放射性沉积模式
在线Z轴驱动及倾斜
水冷时不会存在水汽
平衡靶和非平衡靶设计
高强度磁体应用于磁性材料

应用领域:
PVD沉积
金属涂层
纳米结构薄膜
多层镀层
反应溅射
射频溅射,直流溅射,脉冲直流溅射
硬质涂层

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