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超高真空多腔室物理气相沉积系统

简要描述:

超高真空多腔室物理气相沉积系统该系统由全球专业的沉积设备商制造,配置多种沉积方式(预留各种功能接口),高度灵活,非常适合多种沉积模式的科研.

更新时间:2018-12-11

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超高真空多腔室物理气相沉积系统

该系统由全球专业的沉积设备商制造,配置多种沉积方式(预留各种功能接口),高度灵活,非常适合多种沉积模式的科研.

目前该系统的超高真空条件沉积模式(仅用机械泵+分子泵,极限真空可达5X10E-10Torr)。多种组合沉积模式,同一腔体实现多种功能沉积方式,沉积源模式有:
磁控溅射源
电子束蒸发源
热蒸发源
该系统高度灵活,软件操作方便,专业为研究机构沉积超纯度薄膜,是真正的超高真空沉积系统。 
超高真空多腔室物理气相沉积系统技术参数: 
极限真空: <5x 10E-10 torr(经过24小时烘烤冷却后);
镀膜均匀度:<3%
样品传送: 便捷安放上置衬底
机柜: 占用空间小结构;
样品台工作: 旋转, 加热, 加载偏压;
样品操作: 预抽真空室;
样品尺寸: 1”、 2”、 3”、 4” 、8”、12”等;
膜厚监控: 石英晶体微天平, 椭偏仪;
烘烤: 内置加热或外置保温加热;
简单方便 的全自动软件操作:全自动抽取真空并且程序自动运行。

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