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真空腔体水气解吸附组件

简要描述:真空腔体水气解吸附组件
Zcuve是近年来上较多使用的水蒸气解吸技术。*的设计可从2.75“扩展到8"法兰尺寸,具有比例较高的紫外线功率因数

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  • 更新时间:2019-02-26
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真空腔体水气解吸附组件

真空腔体水气解吸附组件

Zcuve是近年来国际上较多使用的水蒸气解吸技术。*的设计可从2.75“扩展到8”法兰尺寸,具有比例较高的紫外线功率因数和较大的法兰尺寸。

Zcuve的设计目的是在真空室内不可能有一个暴露的紫外线发射器的情况下,从大型沉积室中解吸水。标准现成的百叶窗可用于防止Zcuve在沉积过程中被涂层。

这一过程在O型环(氟橡胶)密封真空室(没有任何其他烘烤方式)上效果好,也适用于较小尺寸的样品传输。


技术参数:

型号

法兰口径

Z275

2.75" / 40 CF

Z450

4.5" / 63 CF

Z600

6.0” / 100 CF

Z800

8.0” / 160 CF


An external assembly houses the UV emitter, which is situated just behind 高紫外线透射,超高真空窗。发射器背面的一面镜子进一步改善了185纳米紫外线辐射通过窗户进入真空室的传输。Zcuve外壳用惰性气体进行回填,以防止外壳内产生臭氧。最后,发射极引线经由mhv高压连接器连接至控制装置。

主要特点:

利用紫外辐射解吸水蒸气的优点是产生很少的热量。更少的热量意味着更少的机械零件和样品损坏。另一个优点是,uvc不需要直接的现场线路来解吸水蒸气。它不能进入角落和缝隙,但它可以反射抛光表面(如室壁),每次“反弹”损失50%到70%。

UVB-100
uvb-100使用uvc辐射无需加热就可以释放水蒸气。发射器伸入真空室。

ZCuVE
零间隙紫外发射器水蒸气解吸系统(Zcuve)利用紫外辐射无热解吸水蒸气。发射器位于真空室外面。

注:这些水蒸气解吸产品设计用于高真空系统、大真空、气室和样品传输。它们的设计并不是为了取代超高真空系统中的辐射烘烤方法,而是与特高压兼容。

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