MDA-40FA/60F光刻机

MIDAS SYSTEM公司开发并生产用于半导体、MEMS、LED及纳米技术相关的实验室和工业领域的光罩对准曝光机和甩胶机，是韩国第1家研发并商业化光罩对准曝光机的企业，始终致力于不断完善、增强技术型企业的核心竞争力。

MIDAS SYSTEM公司具有专业化的设计团队，以客户需要为己任，生产、供应满足国内外企业、科研院所不断增长的应用需求，并且提供半导体工艺相关的设备需要。

MDA-40FA/60F光刻机是一款MIDAS公司新开发的产品，代表了下一代全区域光刻系统。这一新型半自动化对准曝光平台具有更高的重复光刻精度以及更可靠的操作，非常适合陶瓷及其他探针卡应用，同时MDA-12SA型半动化光罩对准曝光机具有更高的生产能力和容易操控。

MDA-40FA/60F光刻机

操作简单，PLC操作，PC控制，图像采集和数据记录，100多个程序配方，显微镜位置控制系统，自动对齐标记搜索功能

类型：全自动

掩模版尺寸：最大5英寸

基板尺寸：2~4英寸

均匀光束尺寸：6.25*6.25英寸

紫外光源：紫外灯，350W

光束波长：350~450nm

光束均匀度<±3%

365 nm强度  ~25 mW/㎠

对齐方式：全自动

对准精度：1 um

加工方式：软、硬、真空接触、接近

工艺分辨率：1μm@1μm PR厚度，真空接触

MDA-60FA

操作简单，PLC操作，PC控制，图像采集和数据记录，100多个程序配方，显微镜位置控制系统，自动对齐标记搜索功能

类型：全自动

掩模版尺寸：最大7英寸

基板尺寸：4~6英寸

均匀光束尺寸：6.25*6.25英寸

紫外光源：紫外灯，350W

光束波长：350~450nm

光束均匀度<±5%

365 nm强度  ~25 mW/㎠

对齐方式：全自动

对准精度：1 um

加工方式：软、硬、真空接触、接近

工艺分辨率：1μm@1μm PR厚度，真空接触