激光直写无掩膜光刻机紫外光直写曝光 ，无需掩模，大幅节约了掩模加工费用，灵活性高，可直接通过电脑设计光刻图形，并可根据设计要求随意调整，可升级开放性系统设计，按照客户要求自由配置，使用维护简单, 设备耗材价格低，应用范围广，目前广泛应用于半导体、生物芯片、微机电系统、传感器、微化学、光学等领域。

spin coater匀胶机既在高速旋转的基片上，滴注各类胶液，利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上，厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同，也和旋转速度及时间有关。

mask aligner半自动光刻机该公司是目前世界上早将光刻机商品化的公司之一，拥有雄厚的技术研发力量和设备生产能力；并且其设备被众多著名企业、研发中心、研究所和高校所采用；以优秀的技术、工艺和良好的服务，赢得了用户的青睐。

匀胶机，旋涂仪其工作原理是高速旋转基片, 利用离心力使滴在基片上的胶液均匀的涂在基片上, 厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同, 也和旋转速度及时间有关。

HOLOPRINT 纳米压印，使用户能够实验和测试许多压印技术;光固化树脂和加工参数，如压力、速度和光照强度。这些检查对于在大规模生产之前进行扩展非常有用 - 在内部构建原型的能力将节省时间和资源。HoloPrint® uniA6 DT还允许中开发压印模板。

MDA-20SA光刻机产地：韩国MIDAS公司，唯1能做到图形化蓝宝石衬底（PSS）光刻机，高性价比。

PL SERIES纳米压印，提供了一个带有微定位装置的机械平台，用于安装纳米压印室、UV固化源和校准显微镜。它既可以作为纳米压印系统，也可以作为传统的掩模对准器，同时为您的整个压印过程提供可编程的自动控制。

MDA-80FA全自动光刻机，操作简单，PLC操作，PC控制，图像采集和数据记录，100多个程序配方，显微镜位置控制系统，自动对齐标记搜索功能。