磁控溅射镀膜机是一种普适镀膜机，用于各种单层膜、多层膜和掺杂膜系。可镀各种硬质膜、金属膜、合金、化合物、半导体、陶瓷膜、介质复合膜和其他化学反应膜，亦可镀铁磁材料。主要用于实验室制备有机光电器件的金属电极及介电层，以及制备用于生长纳米材料的催化剂薄膜层。磁控溅射镀膜机主要优势：1、实用性：1.1、设备集成度高，结构紧凑，占地面积小，可以放置于实验桌面上即可；1.2、通过更换设备上下法兰可以实现磁控与蒸发功能的转换，实现一机多用；2、方便性：2.1、设备需要拆卸的部分均采用即插...

脉冲激光沉积也被称为脉冲激光烧蚀，是一种利用激光对物体进行轰击，然后将轰击出来的物质沉淀在不同的衬底上，得到沉淀或者薄膜的一种手段。发展历程：脉冲激光沉积的发展与探究，处处受制。事实上，当时的激光科技还未成熟，可以得到的激光种类有限；输出的激光既不稳定，重复频率亦太低，使任何实际的膜生成过程均不能付诸实行。因此，PLD在薄膜制作的发展比其它技术落后。以分子束外延（MBE）为例，制造出来的薄膜质素就优良得多。往后十年，由于激光科技的急速发展，提升了PLD的竞争能力。与早前的红宝...

深能级瞬态谱仪是半导体领域研究和检测半导体杂质、缺陷深能级、界面态等的重要技术手段。根据半导体P-N结、金－半接触结构肖特基结的瞬态电容（△C～t）技术和深能级瞬态谱（DLTS）的发射率窗技术测量出的深能级瞬态谱，是一种具有*检测灵敏度(检测灵敏度通常为半导体材料中掺杂济浓度的万分之一)的实验方法，能检测半导体中微量杂质、缺陷的深能级及界面态。通过对样品的温度扫描，可以给出表征半导体禁带范围内的杂质、缺陷深能级及界面态随温度（即能量）分布的DLTS谱。集成多种全自动的测量模式...

磁控溅射的工作原理是指电子在电场E的作用下，在飞向基片过程中与氩原子发生碰撞，使其电离产生出Ar正离子和新的电子；新电子飞向基片，Ar离子在电场作用下加速飞向阴极靶，并以高能量轰击靶表面，使靶材发生溅射。在溅射粒子中，中性的靶原子或分子沉积在基片上形成薄膜，而产生的二次电子会受到电场和磁场作用，产生E（电场）×B（磁场）所指的方向漂移，简称E×B漂移，其运动轨迹近似于一条摆线。若为环形磁场，则电子就以近似摆线形式在靶表面做圆周运动，它们的运动路径不仅很长，而且被束缚在靠近靶表...

匀胶机其工作原理是高速旋转基片,利用离心力使滴在基片上的胶液均匀的涂在基片上,厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同,也和旋转速度及时间有关。匀胶机是在高速旋转的基片上，滴注各类胶液，利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上的设备，膜的厚度取决于匀胶机的转速和溶胶的黏度。从其原理来说，可以看出选购匀胶机需要注意的几个细节：1、旋转速度转速的快慢和控制精度直接关系到旋涂层的厚度控制和膜层均匀性。如果标示的转速和电机的实际转速误差很大，对于要求精密涂覆的科研人员来说是无法获...

在许多实际试验中,需要使用气溶胶发生器,以固定的粒径分布连续稳定地产生浓度可调的气溶胶粒子。气溶胶主要是用特殊的喷嘴设计的。压缩空气通过一个圆形槽被吹入雾化液体。喷气口与液体之间的剪切力在所谓的环形间隙中充分分散,形成微小的气溶胶粒子,惯性对撞机体积较大。当气溶胶颗粒返回液体容器时,输出颗粒尺寸主要分布在0.1到10微米之间。适用于医疗器械检验机构、疾病预防控制中心、医院、制药企业、高效过器生产企业等洁净室、高效过滤器的检漏。然而新手在使用仪器时都会遇到一些问题，下面我们来仔...