狭缝挤出式涂布机是一款应用狭缝挤出式涂布模头对基材进行非接触式涂布的一款设备。该设备通过配置狭缝挤压涂布模头、精密计量供料系统与进料阀体配合可实现连续涂布和条纹涂布两种类型的涂布功能。设备涂布精度高，一致性和稳定性好，广泛应用于锂离子电池、FCCL、光学薄膜、胶带以及各种功能薄膜行业，狭缝挤出涂布方式，涂布精度高，涂层一致性好；供料阀体配合模头垫片，可实现连续、间歇、条纹、网格等形状的涂布；模头根据客户材料特性设计，可实现超薄亚微米级涂布；计量泵供料，浆料封闭运行，可自由设定...

深能级瞬态谱仪是半导体领域研究和检测半导体杂质、缺陷深能级、界面态等的重要仪器。根据半导体P-N结、金－半接触结构肖特基结的瞬态电容（△C～t）技术和深能级瞬态谱（DLTS）的发射率窗技术测量出的深能级瞬态谱，是一种具有高检测灵敏度(检测灵敏度通常为半导体材料中掺杂济浓度的万分之一)的实验方法，能检测半导体中微量杂质、缺陷的深能级及界面态。通过对样品的温度扫描，可以给出表征半导体禁带范围内的杂质、缺陷深能级及界面态随温度（即能量）分布的DLTS谱，集成多种全自动的测量模式及全...

表面光电压谱主要应用于半导体材料或者器件的TPV测试和机理分析，光催化材料TiO2、C3N4、CdS、磷化物等、催化材料、分子筛、太阳能电池（单晶、多晶、染料敏化、钙钛矿）、光电化学的TPV、电化学材料的TPV等。光电压谱采用白光偏置光路激发材料；大功率*脉冲激光器；采用专有技术的电磁屏蔽，无任何外界干扰；测试光路，水平与垂直可任意在线切换，实现固体样品和液体样品均可测试分析。光生载流子动力学主要测试技术，载流子动力学测试技术主要有电学和谱学两类.电学方法主要是光电化学，测量...

气溶胶粒径谱仪触摸屏式显示和操作，集成网络服务器，实时显示测量数据，无需外接电脑，单台仪器可以连续自动测量数周，仪器配置标准接口，过程控制系统或通用程序可以控制该仪器，所以特别适用于控制和监测。粉尘发生器用于测量不同高度的飘浮颗粒物。样品流量由外置真空泵来维持供给，其流量大小由定流量孔口流量计来控制。仪器可实时检测气溶胶颗粒，粒径范围在0.25微米至32微米，具有31个粒径通道，测量结果可显示为颗粒数目浓度或选择显示为颗粒质量浓度。粉尘发生器易于安装、结构灵活、使用方便，只需...

多功能磁控溅射仪可以灵活运用多种膜生长技术，针对各种不同大小和形状的样品，非常方便切换沉积模式。多功能磁控溅射仪腔体的开放式设计，使得样品大小从几毫米到250毫米均可镀层。样品夹具可以轻松固定多个样品并同时镀膜。此系统真空腔内连接一个300mm宽的快速通道门，可以非常方便和快速地切换样品和靶源。这对于薄膜制备研究机构，面对多种材料增加或改变沉积方式，转换起来非常方便，并没有任何空间限制。溅射仪主要用于纳米级的单层及多层功能膜、各种硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜、铁磁膜和磁性...

狭缝挤出式涂布机使用精密计量泵将过滤、除泡后的流体，保持恒定压力输送至超精密加工进口耐腐合金材料制挤压腔体内，通过直线吐出口将流体流延到片幅上。铜箔（或铝箔）由放料机构通过张力控制自动纠偏放料，通过挤压头将流体涂覆到箔带表面，涂好的箔带经烘箱烘干，通过纠偏及张力控制，整齐复卷到收料气涨轴，连续涂布，间隙涂布，连续斑马纹涂布，“田”字格涂布（间隙涂布配合斑马纹涂布）。挤压头采用日本优质耐腐，新型超硬不锈钢制作，采用进口精密计量泵供料，精密伺服电机驱动，保证浆料流速稳定。狭缝挤出...