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半自动光刻机在高精度微加工中的实际应用
半自动光刻机在高精度微加工中的实际应用 2025-04-15

随着微电子技术和纳米技术的快速发展,光刻技术成为了半导体制造和高精度微加工中的核心技术。尤其是半自动光刻机,凭借其较高的性价比和较为灵活的操作模式,已经在许多高精度微加工领域中得到了广泛应用。一、半自动光刻机的工作原理光刻技术通过利用光敏材料(光刻胶)在紫外光或激光照射下发生化学...

  • 气溶胶粒径谱仪粉尘发生器在质量控制中有着广泛应用 2019-03-26

    气溶胶粒径谱仪粉尘发生器在质量控制中有着广泛应用气溶胶粒径谱仪粉尘发生器基于单一颗粒的光散射的原理测量颗粒粒径分布,而无需假设特定分布,例如对数正态粒径分布,该方法将高敏感性、高准确性和高速测量结合起来,并实现对高浓度气溶胶颗粒的粒径分布的测量。气溶胶粒径谱仪粉尘发生器采用近前向散射技术,使得颗粒形状和折射率对测量结果的影响降至低,并专为高浓度气溶胶颗粒的测量进行了设计,技术上的解决解决方案就是通过空气动力学及光学聚焦产生一个足够小的测量体积,小的测量体积能够有效降低重叠误差...

  • 激光直写提高工作量和用户安全程度 2019-03-22

    激光直写提高工作量和用户安全程度激光直写光刻机是桌面型高分辨率激光光刻系统,它通过固定连续的375nm或405nm紫外光源在光刻胶或紫外敏感胶中直接刻划获得微纳结构,直写面积高达4英寸,特征尺寸(宽度)可达1微米。激光直写光刻机提供竖直和扫描直写模式,确保直接轨迹偏离小于100nm,具有电动光学聚焦系统,提供快速的聚焦功能,从而适合各种厚度衬底的要求,并具有晶圆装载和卸载系统装备到衬底室供客户选配,增强清洁程度,提高工作量和用户安全程度。激光直写不仅具有无掩模板直写系统的灵活...

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