表面光电压谱可以用来测定半导体的导电类型（特别是有机半导体的导电类型）、半导体表面参数，研究纳米晶体材料的光电特性，了解半导体光激发电荷分离和电荷转移过程，实现半导体的谱带解释，并为研究符合体系的光敏过程和光致界面电荷转移过程提供可行性方法。光谱研究光生载流子反应动力学，半导体受激光激发后产生载流子，在其衰减过程中可发生一系列的变化和反应，时间分辨紫外可见吸收光谱可监测其随时间变化，确定载流子的检测波长，光生电子和空穴的特征吸收波长可调控电极一种载流子浓度而测量另一种载流子的...

多功能磁控溅射仪在单个阴极靶系统中，与脉冲磁控溅射有同样的释放电荷、防止打弧作用，适用于高分辨扫描电镜及聚焦离子束扫描电镜样品的喷金以及样品等离子体清洗等多种用途。仪器实现磁控溅射喷金，获得更为细腻的金膜，以满足高分辨扫描电镜等样品处理，同时具备射频离子源实现样品清洗，高效、低等离子体轰击损伤，核心部件采用无油分子泵组，静音、无需操心真空系统和操作间环境泵油污染，保证设备具有优异的质量与稳定可靠性，触摸屏界面操作，即插即用。该设备是一款小型磁控溅射镀膜仪，主要特点是设备体积小...

磁控溅射镀膜机在磁控溅射中，由于运动电子在磁场中受到洛仑兹力，运动轨迹会发生弯曲甚至产生螺旋运动，其运动路径变长，因而增加了与工作气体分子碰撞的次数，使等离子体密度增大，从而磁控溅射速率得到很大的提高，而且可以在较低的溅射电压和气压下工作，降低薄膜污染的倾向。另一方面也提高了入射到衬底表面的原子的能量，因而可以在很大程度上改善薄膜的质量，同时，经过多次碰撞而丧失能量的电子到达阳极时，已变成低能电子，从而不会使基片过热。射频磁控溅射相对于直流磁控溅射的主要优点是，它不要求作为电...

快速化学淬灭系统是多路混合停流装置，淬灭装置，快速混合温度突变等装置系统，产品设计解决您快速动力学应用中的需要，自动浓度依赖性实验研究以及两路混合实验研究，标准停流配置适用所有光学模式：吸收，荧光，圆二色，荧光各向异性光谱等测定。比色池多样性，可扩展温度适用范围，可更换SFM附件，应用于：化学淬灭，光学淬灭以及光学延时，冷冻淬灭，X-射线散射停流，中子色散停流，EPR停流，低温停流，自动滴定，停流电导，快速混合温度突变系统，微重力实验研究等。仪器有外部信号输入通道，同步16位...

快速动力学停流装置与光谱仪器配合进行快速动力学瞬间实时记录，或离线分析，为广大的快速动力学研究学者提供了保障。装置可进行平板边界层气流实验，紊流射流实验，圆柱压力分布测量及饶流阻力实验，动量法测量机翼阻力实验及表面压强分布实验；为小型风洞式，实验段为组装式结构，各试件相互轮换实验组装方便。停流装置配有多管倾斜式调平测压计，不锈钢毕托管，电镀平板试件及有机玻璃风道、有机玻璃圆柱试件及有机玻璃风道、电镀喷嘴试件及有机玻璃风道、有机玻璃机翼试件及有机玻璃风道，低噪音多翼式离心风机，...

皮可安培计通过使所有的在输入附近的点的电位都变得和输入一样就可以做到了，这样的话输入的电位其实是虚接地的，通过接地就可以阻止任何在正负15V输入端之间和反相输入求和点上的杂散泄露电流。半机架外壳皮安培计/源通道，允许在两个通道同时进行6位测量，使其它高速通道密度密度增加了两倍，相比有备选的单通道皮安培计/源通道组合，可以实现简便控制和数据聚合、拥有低成本、高测量精度和宽动态范围，用户在每个通道上读取900次读数/秒。皮可安培计是高性价比电流测试仪器，它具有的分辨率与高灵敏度，...