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光电子发射和低能量电子显微镜

简要描述:产品规格(PEEM)
<br>成像模式: 热离子及光发射显微技术, 光谱成像及能量分析
分辨率Resolution: <15 nm(保证), Z高达到 8.2 nm (16/84% criteria)
观测视野: 2 - 150 µm
初始压力: < 2 x 10-10 Torr

  • 产品型号:
  • 厂商性质:代理商
  • 更新时间:2018-12-04
  • 访  问  量:636

详细介绍

产地类别进口

LEEM & PEEM 系统的,致力于材料表面动态变化的研究, 在拥有众多的客户。LEEM & PEEM是新材料生长研发观测的有力工具。
光发射电子显微镜PEEM是九十年代左右发展起来的一种新的表面原位技术。它对二维平整样品表面的局域功函数成象,广泛应用于原位、动态观察多相催化反应过程中催化剂表面局域功函数的变化。光发射电子显微镜(Photoemission Electron Microscopy, PEEM)是一种新的表面原位技术。在以往的多相催化反应理论研究中,由于各种因素,人们通常采用“黑箱”研究方法,仅仅表征反应前和反应后表面的特征,而不涉及反应发生的过程,因此获得的信息很难确切反映真实反应条件下表面的性质。zui近的表面反应理论认为:在反应过程中,催化剂表面会出现由于时间-空间自组织现象导致的表面化学波和其它各种时空斑图,而这些化学波和时空斑图的存在可能是表面反应得以发生和继续进行的原动力,这一新的学术思想已当今表面反应研究的前沿。为了进一步探讨多相催化反应机理,就必须深入研究催化反应过程中催化剂表面的性质,这就需要一种能在催化反应过程中对催化剂表面进行原位表征的技术,光发射电子显微镜能够胜任这一工作。

光发射电子显微镜在多相催化中的应用
PEEM能以高对比度反映催化剂表面局域功函数的微小变化,所以PEEM能够原位、动态的观察和记录化学过程中催化剂表面局域功函数的变化过程。而在多相催化表面反应过程中,反应气体在催化剂表面的吸附/脱附、扩散和化学反应等都会导致其表面局域功函数的变化,所以PEEM广泛应用于金属催化剂表面在反应过程中局域功函数的变化过程及化学波和各种时空斑图的形成的在线观察,从而获得反应过程中吸附质在催化剂表面上的吸附/脱附、扩散及化学反应等动力学过程的信息。

产品特性(PEEM)

① 采用紫外光为激发光源,对表面无损害作用,是一种非破坏性成像方法;

② 能以高对比度反映催化剂表面局域功函数的微小变化;

③ 配置高灵敏度、高分辨率的CCD相机,可以在一定的时间和空间范围内对表面反应过程进行原位动态观察;

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