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反应离子刻蚀机(美国产,高性价比)

简要描述:

反应离子刻蚀机(美国产,高性价比)-聚合物或光阻的等温各向同性干刻
-硅片或玻璃表面清洁
-硅表面氧化去除

更新时间:2018-12-03

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反应离子刻蚀机(美国产,高性价比)

仪器简介:
应用:
-聚合物或光阻的等温各向同性干刻
-硅片或玻璃表面清洁
-硅表面氧化去除

反应离子刻蚀机(美国产,高性价比)技术参数:
配置,随机附件、备品备件:
(1)6英寸水冷样品台
(2)200瓦射频发生器和手动匹配器,watt RF Generator and manual matching network
(3) 双数字读取前端和反射功率 ,Dual digital readout of forward and reflected power
(4) 双气体控制,Dual gas controls
(5) 独立的排空控制,Separate vent control
(6) 石英腔体,Quartz chamber
(7) 直流偏压表显示,DC bias meter display
(8) 数字时间计时器, Digital termination timer
(9) 射频防护,RF shield
(10)  分子泵,Turbo pump
(11) 耐腐蚀罗茨机械泵,Corrosive series rotary vane roughing pump
(12) 电容压力真空规,Capactiance manometer
(13) 不锈钢气体分样环, Stainless steel gas distribution ring
(14)质量流量计,Mass Flow Controller
(15)产品详细的英文操作、维护指南1套

技术性能指标:
(1)真空: 真空可以达到10-6 Torr,所用的涡轮分子泵转速为70转/秒。工作时气压可达10-3 Torr以上。
(2)气体输送: 两个通道,均采用不锈钢材料,内置气体喷淋;
(3)系统排空: 独立自锁螺线管路,和氮气口相连;
(4)射频电源: 功率为0-200瓦,可任意调节;高频电场频率为13.56 MHz,手动调节,空气冷却;
(5)刻蚀处理时间: 单次刻蚀时间可达到100小时, 可自行设定终止时间;
(6)刻蚀速率:对氧化物每分钟20纳米,对氮化物每分钟50纳米;各类材料刻蚀均匀性<±5% (4寸圆片,49点测量),刻蚀速率片间稳定性<5%
(7)真空腔体: 石英材料, 外径8英寸,高4英寸;
(8)真空表头:前端屏幕数值显示;
(9)气体控制: 两个独立的针阀,具有安全自锁功能;
(10)样品台: 可放置直径6英寸以下的样品,具有水冷功能

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