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真空快速退火炉-材料设备(RTP)一般都是以红外卤素灯为发热元件,升温速度极快,采用热电偶测温并采用国际*的PID控制,具有很高的控温精度,快速退火炉具有真空装置,可在多种气氛下工作。大大提高了其使用范围。
仪器规格:
加热方式:红外卤素钨灯;
最大样品尺寸: 2--6寸,单片;
最高温度: 1200度;
工作气体:最多3路气体(MFC控制),可通入氧气,氮气及惰性气体;
极限真空:5e-3torr;
真空泵:机械泵(可选配分子泵,干泵);
工艺控制:手动工艺控制;
循环水冷却,提高降温速度;
结构紧凑,经济实惠。
应用:
快速热升温工艺(热退火);
薄栅氧化(纳米器件);
低熔点压焊(反应金属压焊);
硅化物构造;
硅化物界点构造等。
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