您好!欢迎访问科睿设备有限公司网站!
咨询热线

13916855175

当前位置:首页 > 产品中心 > > 镀膜设备 > 超高真空磁控溅射系统

超高真空磁控溅射系统

简要描述:超高真空磁控溅射系统美国专业的制造商PVD公司是一家在磁控溅射沉积,电子束蒸发沉积,脉冲激光沉积等领域有着20年制造经验。

  • 产品型号:
  • 厂商性质:代理商
  • 更新时间:2018-12-11
  • 访  问  量:2102

产品分类

Product Category

相关文章

Related Articles

详细介绍

价格区间面议产地类别国产

超高真空磁控溅射系统

超高真空磁控溅射系统(UHV SPUTTER) 
仪器介绍:
美国专业的制造商PVD公司是一家在磁控溅射沉积,电子束蒸发沉积,脉冲激光沉积等领域有着20年制造经验。 
我司代理的PVD公司生产的磁控溅射系统可以实现在最大300mm衬底上沉积金属和电介质薄膜。使用RF、DC或脉冲DC电源的磁控溅射源可以单个模式或者联合-沉积模式工作,以便生产可以对满足广泛的薄膜要求。我司生产的钛磁控溅射源的尺寸可从1 inch(25mmm)到8inch(200mm)任选 ,并搭配内置倾斜装置以满足按照沉积工艺进行的微调。衬底支架符合最大300mm直径的晶片需求,并可对晶片加热至850°C及加载RF偏压。磁控溅射系统可按客户需求增减其他窗口用于诸如残余气体分析(RGA)、反射高能电子衍射(RHEED)或椭偏仪(ellipsometry)。


技术参数: 
Vacuum Chamber: 304不锈钢圆柱形腔体,满足不同客户的定制需求。
Pumping: 分子泵或冷凝泵,机械泵真空系统
Load Lock: 手动传片或自动传片,适合各种形状尺寸的小片到300mm大的圆片,高真空背景传递
Process Control: PC / PLC自动控制界面,菜单控制,数据获取和远程控制
In-Situ Monitoring & Control: QCM膜厚监控,光学膜厚监控,RGA残余气体分析
Substrate Fixture: 单片,多片,星状衬底夹具
Substrate Holders: 可加热,冷却,偏压,旋转 
Ion Source: 衬底预清洗,纳米表面改性
Deposition Techniques
Magnetron Sputtering  RF, DC, or Pulsed-DC;具有射频溅射,直流溅射,脉冲直流溅射。
Glancing Angle Depostion (GLAD)Cathodic Arc Plasma Deposition   倾斜角度溅射。

产品咨询

留言框

  • 产品:

  • 您的单位:

  • 您的姓名:

  • 联系电话:

  • 常用邮箱:

  • 省份:

  • 详细地址:

  • 补充说明:

  • 验证码:

    请输入计算结果(填写阿拉伯数字),如:三加四=7
扫一扫,关注微信
地址:上海市杨浦区松花江路251弄白玉兰环保广场3号902室 传真:021-55781190
©2022 科睿设备有限公司 版权所有 All Rights Reserved.  备案号:
扫一扫访问手机站扫一扫访问手机站
访问手机站