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负性光刻胶（SU-8）

简要描述：SNR负性光刻胶，针对微机械加工微电子应用，高对比度，环氧树脂类负性光刻胶。
具有垂直侧壁的高纵横比成像
近紫外（350-400nm）处理
单旋涂膜厚度为1.5至200µm
高度耐化学性和耐温度性
与已建立的SU-8光刻工艺兼容

PR Coat ▶
SNR可用于7种基本粘性（SNR C5、C7、C10、C15 C25、C50、C75），每个涂层厚度可通过spin curve查看。

产品型号：SNR
厂商性质：代理商
更新时间：2024-02-27
访问量：919

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产品分类

Product Category

光刻机，匀胶机

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详细介绍

品牌	其他品牌	供货周期	一个月
主要用途	光刻工艺用的化学品	应用领域	电子

SNR负性光刻胶，针对微机械加工微电子应用，高对比度，环氧树脂类负性光刻胶。

具有垂直侧壁的高纵横比成像

近紫外（350-400nm）处理

单旋涂膜厚度为1.5至200µm

高度耐化学性和耐温度性

与已建立的SU-8光刻工艺兼容

微机械加工微电子应用

高对比度环氧树脂负片光刻胶

具有垂直侧壁的高纵横比成像

近紫外（350, 400nm）处理

单层旋涂膜厚度为0.5至200µm

高度耐化学性和耐温度性

兼容既定的SU8光刻工艺

ENPR Series	Viscosity (cP)	Thickness (um)	Exposure Energy (mJ/㎠)
C5	53	4 - 8	100 - 120
C7	165	6 - 13	110 - 125
C10	455	9 - 21	120 - 140
C15	1500	13 - 46	125 - 180
C25	5490	18 - 70	135 - 200
C50	15900	40 - 155	165 - 295
C75	27200	60 - 240	190 - 360

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