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负性光刻胶 (SU-8)

简要描述:SNR负性光刻胶,针对微机械加工微电子应用,高对比度,环氧树脂类负性光刻胶。
具有垂直侧壁的高纵横比成像
近紫外(350-400nm)处理
单旋涂膜厚度为1.5至200µm
高度耐化学性和耐温度性
与已建立的SU-8光刻工艺兼容

PR Coat ▶
SNR可用于7种基本粘性(SNR C5、C7、C10、C15 C25、C50、C75),每个涂层厚度可通过spin curve查看。

  • 产品型号:SNR
  • 厂商性质:代理商
  • 更新时间:2022-12-09
  • 访  问  量:115

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详细介绍

品牌其他品牌供货周期一个月
主要用途光刻工艺用的化学品应用领域电子

SNR负性光刻胶,针对微机械加工微电子应用,高对比度,环氧树脂类负性光刻胶。

具有垂直侧壁的高纵横比成像

近紫外(350-400nm)处理

单旋涂膜厚度为1.5至200µm

高度耐化学性和耐温度性

与已建立的SU-8光刻工艺兼容


微机械加工微电子应用


高对比度环氧树脂负片光刻胶


具有垂直侧壁的高纵横比成像


近紫外(350, 400nm)处理


单层旋涂膜厚度为0.5至200µm


高度耐化学性和耐温度性


兼容既定的SU8光刻工艺


ENPR
Series
Viscosity
(cP)
Thickness
(um)

Exposure Energy
(mJ/㎠)
C5
534 - 8100 - 120
C71656 - 13110 - 125
C104559 - 21120 - 140
C15150013 - 46125 - 180
C25549018 - 70135 - 200
C501590040 - 155165 - 295
C752720060 - 240190 - 360





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