MDA-20SA光刻机

光刻机又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统，光刻机，紫外曝光机等；
MIDAS为半导体设备供应商，多年来致力于掩模对准光刻机和匀胶机研发与生产，并且广泛应用于半导体、微电子、生物器件和纳米科技领域；该公司是目前将光刻机商品化的公司之一，拥有雄厚的技术研发力量和设备生产能力；并且其设备被众多著名企业、研发中心、研究所和高校所采用；以优秀的技术、工艺和良好的服务，赢得了用户的青睐。

MDA-20SA光刻机产地：韩国MIDAS公司，唯1能做到图形化蓝宝石衬底（PSS）光刻机，高性价比
型号：MDA-20SA

MDA-20SA光刻机

操作简单，可编程控制器（PLC）操作，PC控制，图像采集和数据记录，100多个程序配方，电动操纵杆控制，电动变焦显微镜和工作台，显微镜位置控制系统

操纵杆控制，半自动

掩模版尺寸规格，用户订制

基板尺寸规格（大面积），用户订制

均匀光束规格，用户订制

紫外线光源：紫外线灯，5 kW

光束波长350~450 nm

光束均匀度<±7%

365 nm强度5 kW: ~45 mW/㎠

对准方法：操纵手柄控制半自动

对准精度1 um

工艺模式：软、硬、真空接触和接近

分辨率：透镜 >3 um，反射镜：>9 um