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半自动光刻机在高精度微加工中的实际应用
半自动光刻机在高精度微加工中的实际应用 2025-04-15

随着微电子技术和纳米技术的快速发展,光刻技术成为了半导体制造和高精度微加工中的核心技术。尤其是半自动光刻机,凭借其较高的性价比和较为灵活的操作模式,已经在许多高精度微加工领域中得到了广泛应用。一、半自动光刻机的工作原理光刻技术通过利用光敏材料(光刻胶)在紫外光或激光照射下发生化学...

  • 表面光电压谱提高了测量的准确度 2020-08-24

    表面光电压谱采用白光偏置光路激发材料;大功率*脉冲激光器,采用电磁屏蔽,无任何外界干扰,测试光路,水平与垂直可任意在线切换,实现固体样品和液体样品均可测试分析。光生载流子动力学主要测试技术,载流子动力学测试技术主要有电学和谱学两类,电学方法主要是光电化学,测量方式又分时间域和频率域,时间域方法主要有瞬态光电压(TPV)和瞬态光电流(TPC),频率域方法主要有电化学阻抗谱(EIS)和光强度调制光电压谱(IPVS)和光强度调制光电流谱(IMPS)等。谱学方法主要是瞬态吸收光谱和瞬...

  • 多功能磁控溅射仪的工作原理介绍 2020-07-21

    多功能磁控溅射仪由真空镀膜系统和手套箱系统集成而成,可在高真空蒸镀腔室中完成薄膜蒸镀,并在手套箱高纯惰性气体氛围下进行样品的存放、制备以及蒸镀后样品的检测,用于制备各种金属膜、半导体膜、介质膜、磁控膜、光学膜、超导膜、传感膜以及各种特殊需求的功能薄膜。磁控溅射仪的工作原理是指电子在电场E的作用下,在飞向基片过程中与氩原子发生碰撞,使其电离产生出Ar正离子和新的电子,新电子飞向基片,Ar离子在电场作用下加速飞向阴极靶,并以高能量轰击靶表面,使靶材发生溅射。在溅射粒子中,中性的靶...

  • 狭缝挤出式涂布机具有很多*的性能 2020-06-18

    狭缝挤出式涂布机是一款应用狭缝挤出式涂布模头对基材进行非接触式涂布的一款设备。该设备通过配置狭缝挤压涂布模头、精密计量供料系统与进料阀体配合可实现连续涂布和条纹涂布两种类型的涂布功能。设备涂布精度高,一致性和稳定性好,广泛应用于锂离子电池、FCCL、光学薄膜、胶带以及各种功能薄膜行业,狭缝挤出涂布方式,涂布精度高,涂层一致性好;供料阀体配合模头垫片,可实现连续、间歇、条纹、网格等形状的涂布;模头根据客户材料特性设计,可实现超薄亚微米级涂布;计量泵供料,浆料封闭运行,可自由设定...

  • 深能级瞬态谱仪具有安全便捷的优点 2020-05-21

    深能级瞬态谱仪是半导体领域研究和检测半导体杂质、缺陷深能级、界面态等的重要仪器。根据半导体P-N结、金-半接触结构肖特基结的瞬态电容(△C~t)技术和深能级瞬态谱(DLTS)的发射率窗技术测量出的深能级瞬态谱,是一种具有高检测灵敏度(检测灵敏度通常为半导体材料中掺杂济浓度的万分之一)的实验方法,能检测半导体中微量杂质、缺陷的深能级及界面态。通过对样品的温度扫描,可以给出表征半导体禁带范围内的杂质、缺陷深能级及界面态随温度(即能量)分布的DLTS谱,集成多种全自动的测量模式及全...

  • 表面光电压谱满足安全标准要求 2020-04-09

    表面光电压谱主要应用于半导体材料或者器件的TPV测试和机理分析,光催化材料TiO2、C3N4、CdS、磷化物等、催化材料、分子筛、太阳能电池(单晶、多晶、染料敏化、钙钛矿)、光电化学的TPV、电化学材料的TPV等。光电压谱采用白光偏置光路激发材料;大功率*脉冲激光器;采用专有技术的电磁屏蔽,无任何外界干扰;测试光路,水平与垂直可任意在线切换,实现固体样品和液体样品均可测试分析。光生载流子动力学主要测试技术,载流子动力学测试技术主要有电学和谱学两类.电学方法主要是光电化学,测量...

  • 气溶胶粒径谱仪实现功能的合理化 2020-03-02

    气溶胶粒径谱仪触摸屏式显示和操作,集成网络服务器,实时显示测量数据,无需外接电脑,单台仪器可以连续自动测量数周,仪器配置标准接口,过程控制系统或通用程序可以控制该仪器,所以特别适用于控制和监测。粉尘发生器用于测量不同高度的飘浮颗粒物。样品流量由外置真空泵来维持供给,其流量大小由定流量孔口流量计来控制。仪器可实时检测气溶胶颗粒,粒径范围在0.25微米至32微米,具有31个粒径通道,测量结果可显示为颗粒数目浓度或选择显示为颗粒质量浓度。粉尘发生器易于安装、结构灵活、使用方便,只需...

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