多功能磁控溅射仪可以灵活运用多种膜生长技术，针对各种不同大小和形状的样品，非常方便切换沉积模式。多功能磁控溅射仪腔体的开放式设计，使得样品大小从几毫米到250毫米均可镀层。样品夹具可以轻松固定多个样品并同时镀膜。此系统真空腔内连接一个300mm宽的快速通道门，可以非常方便和快速地切换样品和靶源。这对于薄膜制备研究机构，面对多种材料增加或改变沉积方式，转换起来非常方便，并没有任何空间限制。溅射仪主要用于纳米级的单层及多层功能膜、各种硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜、铁磁膜和磁性...

狭缝挤出式涂布机使用精密计量泵将过滤、除泡后的流体，保持恒定压力输送至超精密加工进口耐腐合金材料制挤压腔体内，通过直线吐出口将流体流延到片幅上。铜箔（或铝箔）由放料机构通过张力控制自动纠偏放料，通过挤压头将流体涂覆到箔带表面，涂好的箔带经烘箱烘干，通过纠偏及张力控制，整齐复卷到收料气涨轴，连续涂布，间隙涂布，连续斑马纹涂布，“田”字格涂布（间隙涂布配合斑马纹涂布）。挤压头采用日本优质耐腐，新型超硬不锈钢制作，采用进口精密计量泵供料，精密伺服电机驱动，保证浆料流速稳定。狭缝挤出...

磁控溅射镀膜机是物理气相沉积的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料，且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点，而上世纪70年代发展起来的磁控溅射法更是实现了高速、低温、低损伤。因为是在低气压下进行高速溅射，必须有效地提高气体的离化率。磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场，利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。一、原理：磁控溅射的工作原理是指电子在电场E的作用下，在飞向基片过程中与氩原子发生碰撞，使其电离产生出Ar正离子和新的电子...

球磨测厚仪允许用户从10nm到250μm分析光学图层厚度，用户可以观察到一副图层厚度分辨率达到0.1nm的单图，根据用户选择的软件，用户可以分析单图层或者小于二分之一的多图层，并且可以测量图层厚度和半导体加工影像或者增透涂料。球磨测厚仪分析单一或者多层，分辨率到0.1nm，适用于原地，在线测量厚度，两个共同的通道用来测量膜层特征，光谱反射/传播和椭圆偏光，利用反射原理来测量入射光到达样品表面后从薄膜反射过来的波段。很多图层可以被认定是一个薄膜的堆积，很多的薄膜和基地原料都能被...

快速化学淬灭系统在液液混合装置、细胞收集装置和电磁反馈控制装置共同作用下，细胞培养液与低温细胞淬灭溶液得到充分混合，且细胞可瞬间降至低温，有效抑制酶活力、代谢淬灭*，引入电磁反馈控制装置和真空泵使终点的淬灭溶剂浓度可控，实现细胞培养液与低温细胞淬灭溶液体积比的准确控制，使胞内代谢物数据真实可靠，各装置之间相辅相成，实现对细胞进行及时、*代谢淬灭。快速化学淬灭系统采用上述系统进行代谢淬灭的方法，简单易行，准确率高，为微生物、动物以及植物细胞的胞内代谢物研究提供技术支持。荧光淬灭...

深能级瞬态谱仪集成多种自动的测量模式及全面的数据分析，可以确定杂质的类型、含量以及随深度的分布，也可用于光伏太阳能电池领域中，分析少子寿命和转化效率衰减的关键性杂质元素和杂质元素的晶格占位，确定是何种掺杂元素和何种元素占位影响少子寿命。该仪器测量界面态速度快，精度高，是生产和科研中可广为应用的测试技术。随着电脑技术的发展，使得在短时间内进行复杂计算成为可能，在纯指数发射过程模型的基础上，用各种数学模型分析测量到的瞬态过程，如傅里叶转换、拉普拉斯转换、多指数瞬态拟合、ITS（等...