在线量产型磁控溅射系统

在线量产型磁控溅射系统

在线量产型磁控溅射系统

仪器简介：

 在线量产型磁控溅射镀膜系统

·  高转换效率

· 大容量吸收，电池可靠性长达10年

· 抗辐射

· 低成本的基片和复合基片

技术参数：

1. 真空腔体模块
a. 主沉积腔, 1 SET
- 形状 & 尺寸 : 前开门式 (Φ500 x H600 mm)
- 蒸发源口径 : effusion cell 5 ea (CF4.5” 4ea, CF6” 1ea)
- 接口 : 可视窗 (带挡板), 泵抽气口, 前加热器,表头, 排空口, 基片挡板,  T/C 口, 样品转移口,高温计,备用 E-Cell port (CF4.5” 2ea), T/M 传感器 
- 外部水冷
-  内部保护盖
b. 样品转移腔
- 腔体: 前开门式(Φ150 x H200 mm)
- 基片夹具:  可夹100X100 mm2 基片
- 磁力杆传送基片
- 接口: 泵,排空,表头,可视窗,阀,备用etc.
- MFC(Ar 10,000 sccm) 和花伞喷淋吹扫

c. 基片样品台模块, 1 SET
- 基片尺寸 : Φ150 mm (100X100 mm2 x 1片)
- 基片加热模块 : SiC加热器 , 最高 700 ℃
- 基片加热功率 (40A x 60V)
- 温度显示,温度指示
- 前加热器模块
- 包括挡板
- Z轴移动, 转动

2. 真空模块
a. 真空泵
? Rotary泵: 600 l/min,用于粗抽主样品沉积腔
? 冷凝泵, N2 2400 l/sec,用于高真空和沉积工作 
b.  真空阀和泵的管道
? 圆形闸板阀, 10 英寸,用于冷凝泵
? 圆形闸板阀, 10 英寸,用于样品转移腔
? 右角阀
? 粗抽泵,用于样品转移腔
? 高真空阀
? 排空阀  
c. 真空测试
?离子规,用于主腔体高真空测试 , 1 set
? Convection计, 用于主腔体粗抽低真空测试, 2 set 
d. 膜厚监控系统
? 石英振荡型沉积控制器,6通道,(CYGNUS controller)
? 共沉积模式监控 : 可测试 4个蒸发源 
? 共沉积速率模式监控 : 可测试 4个蒸发源
? 单个晶体传感器: 4 set
? 测试分辨率: 0.5 ?
? 厚度显示范围: 0 to 999.9 k?
? 厚度准确度: 0.5%
? 屏幕参数显示

3. 蒸发源模块
a. EFFUSION CELL SOURCE & 电源 : 4 SET
- 蒸发源 : Effusion cell ( for Cu, In,Ga,Se)

4. 系统控制模块
- 手动过程控制及可升级至自动过程控制
- 硬件: PLC, PC
- 安全自锁, 用于电路,压缩气体,冷却水循环,泵及阀,, etc
- 基片温度显示: 曲线图和高温计, etc.
- 系统状态显示屏

5. 主机框架及控制柜
- 整体机器被可移动的显示屏罩着
- 框架下有可调节支腿- 电源 (压力规, 蒸发源的电源etc.)
- 19" 支架用于控制屏及控制器

主要特点：

 CIGS 沉积系统的主要特点：
1. 沉积厚度: 可达几个微米up to several micron
2. 沉积材料: CIGS(Cu, In, Ga, Se), etc..
3. 膜厚均匀性: ≤ ± 5 % 在 100X100 mm2 基片上
4. 基片: Soda-lime glass, SUS foil, etc..
5. 沉积模式: 在基片加热过程中，使用 Effusion cell 蒸镀
6. 产量: 100X100 mm2 x 1sheet/ batch, 手动
7. 真空度: 极限真空 3 x 10 -7 Torr
8. 真空腔: 样品转移腔和主沉积腔
9. 控制系统: 基于 PLC and PC上的手动操作
10. 目的: 研究及发展（R&D）