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有机分子束沉积系统

简要描述:

有机分子束沉积系统电子束蒸发系统、热蒸发系统、超高真空蒸发系统、分子束外延MBE、有机分子束沉积OMBD、等离子增强化学气相淀积系统PECVD/ICP Etcher、电子回旋共振等离子体增强化学气相沉积、离子泵等

更新时间:2018-12-03

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有机分子束沉积系统

有机分子束沉积系统

 

仪器简介:

全球专业的沉积设备制造商,为各个领域的客户提供完善的薄膜沉积解决方案:电子束蒸发系统、热蒸发系统、超高真空蒸发系统、分子束外延MBE、有机分子束沉积OMBD、等离子增强化学气相淀积系统PECVD/ICP Etcher、电子回旋共振等离子体增强化学气相沉积、离子泵等



技术参数:

1.蒸镀源Cell&电源:
?有机金属沉积蒸镀Cell
--最大温度: 500℃
--坩埚容积和材料: 2~200 cc and Quartz, Graphite,etc
--包含Shutter and Cooling shroud (选件)
--电源:15A, 20V
--温度控制: PID control
?金属沉积蒸镀Cell
--最大温度: 1,400℃(up to 1,800 ℃)
--坩埚容积和材料: 2~120 cc and Al2O3, BN, PBN, etc
?包括shutter和Cooling shroud
?电源: 30A, 80V
?温度控制:ntrol : PID control

2.薄膜沉积控制:
?Cygnus and PC控制
--控制沉积参数
----多达6源同时沉积
--石英晶体振荡器
----一个, 两个或六个
?膜厚测量
--石英晶体振荡器
----一个, 两个或六个

3.真空室:
?圆柱形腔体
--直径: φ300 ~ 1,000 mm (Substrate : 1 inch to 370 ×400 mm)
-- 高度: 300 ~ 700 mm
?方形腔体
--根据客户需求定制

4.真空泵和测量装置:
?低真空: 干泵和convectron真空规
?高真空: 涡轮分子泵,低温泵和离子规
?超高真空: 离子泵和离子规

5.控制系统:PLC, PC with Touch Screen



主要特点:

扩展功能:
?温度控制器:基底加热
?He cooling 装置:基底冷却
?LN2or CW 冷却系统
?传递单元:样品传递在有机和金属处理时
?带自动样品递送装置的Loadlock样品加载系统

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