您好!欢迎访问科睿设备有限公司网站!
咨询热线

13916855175

当前位置:首页 > 产品中心 > > > 三腔室互相传递PVD系统

三腔室互相传递PVD系统

简要描述:三腔室互相传递PVD系统Shown here is a dual chamber system including PLD and Magnetron sputtering connected via a dual wafer loadlock. PVD can provide combination systems like this or completely integrated cus

  • 产品型号:
  • 厂商性质:代理商
  • 更新时间:2024-02-27
  • 访  问  量:231

详细介绍

三腔室互相传递PVD系统

PVD Products’ provides a wide variety of custom physical vapor deposition systems. 

Shown here is a  dual chamber system including PLD and Magnetron sputtering connected via a dual wafer loadlock.  PVD can provide combination systems like this or completely integrated custom systems specific to the customer requirements.

三腔室互相传递PVD系统

  三腔室设计: PLD腔体+Sputter磁控溅射腔体+Load-lock样品传输腔体

3 UHV Mags

3 x 15 cc ebeam

RHEED

Ellipsometer

100-mm wafers

850°C

RF Bias

<5 x 10-9Torr

 

产品咨询

留言框

  • 产品:

  • 您的单位:

  • 您的姓名:

  • 联系电话:

  • 常用邮箱:

  • 省份:

  • 详细地址:

  • 补充说明:

  • 验证码:

    请输入计算结果(填写阿拉伯数字),如:三加四=7
扫一扫,关注微信
地址:上海市杨浦区松花江路251弄白玉兰环保广场3号902室 传真:021-55781190
©2024 科睿设备有限公司 版权所有 All Rights Reserved.  备案号: