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三腔室互相传递PVD系统

简要描述:三腔室互相传递PVD系统Shown here is a dual chamber system including PLD and Magnetron sputtering connected via a dual wafer loadlock. PVD can provide combination systems like this or completely integrated cus

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  • 厂商性质:代理商
  • 更新时间:2024-02-27
  • 访  问  量:208

详细介绍

三腔室互相传递PVD系统

PVD Products’ provides a wide variety of custom physical vapor deposition systems. 

Shown here is a  dual chamber system including PLD and Magnetron sputtering connected via a dual wafer loadlock.  PVD can provide combination systems like this or completely integrated custom systems specific to the customer requirements.

三腔室互相传递PVD系统

  三腔室设计: PLD腔体+Sputter磁控溅射腔体+Load-lock样品传输腔体

3 UHV Mags

3 x 15 cc ebeam

RHEED

Ellipsometer

100-mm wafers

850°C

RF Bias

<5 x 10-9Torr

 

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