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匀胶机1

简要描述:

匀胶机1他们原理都是一样的,既在高速旋转的基片上,滴注各类胶液,利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上,厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同,也和旋转速度及时间有关。

更新时间:2018-12-11

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匀胶机1

匀胶机1有很多种称谓,英文叫Spin Coater或者Spin Processor,又称甩胶机、匀胶台、旋转涂胶机、旋转涂膜机、旋转涂层机、旋转涂布机、旋转薄膜机、旋转涂覆仪、旋转涂膜仪、匀膜机,总的来说,他们原理都是一样的,既在高速旋转的基片上,滴注各类胶液,利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上,厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同,也和旋转速度及时间有关。
匀胶机适用于半导体、硅片、晶片、基片、导电玻璃及制版等表面涂覆工艺, 可在工矿企业、科研、教育等单位作生产、科研、教学之用。匀胶机可以用于制作低于10nm厚度的薄膜,并且在清洗和刻蚀中也被广泛使用。
由我司提供的匀胶机,在高校、研究所及半导体产业享有很高的声誉,相信能满足您多种不同应用要求。
产地:韩国MIDAS公司,
型号:SPIN-1200


匀胶机通用参数:
旋转衬底最大尺寸:4”、6”、8”、12”、550mm;
按客户需求提供整体解决方案,可以旋涂最小3mm, 最大1000mm衬底;
从手动到全自动溶质分配的选择范围宽大;
无振动转速最高8000rpm;
真空吸附,无污染;
台式匀胶机,占用空间小;
具备耐化学性的无缝聚丙烯外罩,并且匀胶机主机易清洗;
聚四氟乙烯(PTFE)的匀胶机可用于强腐蚀性化学材料;
便于程序操作的全尺寸键盘,甚至带着手套都可以方便使用;
可以准确重复运行程序的数字程序控制系统;
高度灵活的多重可编程步骤组成复合程序。


应用范围:
可用于光刻胶(PR),聚酰亚胺(Polyimide),金属有机物(Metallo-organics),搀杂剂(Dopant),硅薄膜(Silica Film),以及大多数的有机溶液、水溶液;

全自动的匀胶及显影工艺必需的全自动Chip生产设备:

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