spin coater匀胶机

匀胶机1

匀胶机1有很多种称谓，英文叫Spin Coater或者Spin Processor，又称甩胶机、匀胶台、旋转涂胶机、旋转涂膜机、旋转涂层机、旋转涂布机、旋转薄膜机、旋转涂覆仪、旋转涂膜仪、匀膜机，总的来说，他们原理都是一样的，既在高速旋转的基片上，滴注各类胶液，利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上，厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同，也和旋转速度及时间有关。
匀胶机适用于半导体、硅片、晶片、基片、导电玻璃及制版等表面涂覆工艺, 可在工矿企业、科研、教育等单位作生产、科研、教学之用。匀胶机可以用于制作低于10nm厚度的薄膜,并且在清洗和刻蚀中也被广泛使用。
由我司提供的匀胶机,在高校、研究所及半导体产业享有很高的声誉,相信能满足您多种不同应用要求。
产地：韩国MIDAS公司，
型号：SPIN-1200


匀胶机通用参数:
旋转衬底最大尺寸：4”、6”、8”、12”、550mm；
按客户需求提供整体解决方案，可以旋涂最小3mm， 最大1000mm衬底；
从手动到全自动溶质分配的选择范围宽大；
无振动转速最高8000rpm；
真空吸附，无污染；
台式匀胶机,占用空间小；
具备耐化学性的无缝聚丙烯外罩，并且匀胶机主机易清洗；
聚四氟乙烯（PTFE）的匀胶机可用于强腐蚀性化学材料；
便于程序操作的全尺寸键盘，甚至带着手套都可以方便使用；
可以准确重复运行程序的数字程序控制系统；
高度灵活的多重可编程步骤组成复合程序。


应用范围：
可用于光刻胶(PR)，聚酰亚胺(Polyimide)，金属有机物(Metallo-organics)，搀杂剂(Dopant)，硅薄膜(Silica Film)，以及大多数的有机溶液、水溶液；

全自动的匀胶及显影工艺必需的全自动Chip生产设备：