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半自动光刻机

简要描述:

半自动光刻机该公司是目前世界上最早将光刻机商品化的公司之一,拥有雄厚的技术研发力量和设备生产能力;并且其设备被众多著名企业、研发中心、研究所和高校所采用;以优秀的技术、精湛的工艺和良好的服务,赢得了用户的青睐。

更新时间:2018-12-11

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半自动光刻机

半自动光刻机
光刻机又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统,光刻机,紫外曝光机等;
MIDAS为全球*的半导体设备供应商,多年来致力于掩模对准光刻机和匀胶机研发与生产,并且广泛应用于半导体、微电子、生物器件和纳米科技领域;该公司是目前世界上最早将光刻机商品化的公司之一,拥有雄厚的技术研发力量和设备生产能力;并且其设备被众多著名企业、研发中心、研究所和高校所采用;以优秀的技术、精湛的工艺和良好的服务,赢得了用户的青睐。

产地:韩国MIDAS公司,一能做到图形化蓝宝石衬底(PSS)光刻机,高性价比
型号:MDA-400M, MDA-60MS




主要特点:
- 光源强度可控;
- 紫外曝光,深紫外曝光(Option);
- 系统控制:手动、半自动和全自动控制;
- 曝光模式:真空接触模式(接触力可调),Proximity接近模式, 投影模式;
- 真空吸盘范围可调;
- 技术:可双面对准,可双面光刻,具有IR和CCD模式
- 双CCD显微镜系统,最大放大1000倍,显示屏直接调节,比传统目镜对准更方便快捷,易于操作。
- 特殊的基底卡盘可定做;
- 具有楔形补偿功能;

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