您好!欢迎访问科睿设备有限公司网站!
咨询热线

13916855175

当前位置:首页 > 产品中心 > > 光刻机,匀胶机 > UV-Writer无掩膜光刻机, 激光直写系统

无掩膜光刻机, 激光直写系统

简要描述:是一个高价值的直写激光光刻机系统,面向大学和研究机构寻求扩大他们的能力。
它用亚微米像素分辨率的405nm激光在光敏抗蚀剂涂层表面大面积书写。你可以写任何东西,从光掩模到基础科学或应用科学的研究原型,集成相机可以用来调整现有的功能写。
我们对其进行了优化,以便于使用和简单维护,最大限度地利用现成的部件,而不牺牲书写质量或功能。

  • 产品型号:UV-Writer
  • 厂商性质:代理商
  • 更新时间:2022-12-15
  • 访  问  量:121

产品分类

Product Category

相关文章

Related Articles

详细介绍

品牌自营品牌

直接激光直写光刻

直接激光光刻技术通过消除光掩模生产对外部供应商的依赖,大大降低了微流体、微电子、微机械和材料科学研究等领域的成本和执行时间。


其控制软件在PC上提供。它允许您从GDSII文件的单元格或直接从PNG图像导入要写入的设计。

一切都是通过一个用户友好的图形界面来完成的,它允许您在执行之前预览要编写的设计。

除了对每个设计应用旋转、反射、反转或比例调整等变换外,还可以在单个过程中组合多个设计。

在确定了设计方案后,采用了所包含的工作台控制模块和共焦显微镜。

使用它们,您可以设置基片上工艺的原点位置和感光表面上的焦平面。

接下来执行该过程并将设计写在表面上。


技术指标:

XY工作台

典型写入速度:100-120 mm/s

最大面积:100x92 mm^2

最小面积:没有最小面积

单向定位台阶:X=0.16µmY=1.00µm

慢速X轴上的机械噪声:<1µm

快速Y轴上的机械噪声:<1µm

多层对准精度:5-10µm(可选旋转台,便于对准)

实际最小特征尺寸:6-15µm,取决于特征(示例见下图)

 

软件

支持的格式:PNGGDSII

在软件转换:,旋转、反射、反转、重缩放、添加边框

-可以在一个进程中编写来自不同文件的多个设计

-通过3点线性或4点双线性聚焦测量进行倾斜/翘曲基板补偿

-全床曲率补偿的网格型标定

 

光学

-激光波长:405nm(可选375nm

-激光聚焦、对准和检测用共焦显微镜

-二次独立黄色照明

-激光光斑尺寸可以使用工业标准显微镜物镜改变

 

精度:

-精细:0.8µm

-介质:2µm

-粗粒:5µm

 

大面积包含目标的有效书写速度(单向书写):

-精细:1.7 mm^2/min

-中等:4.25 mm^2/min

-粗糙度:10.6 mm^2/min

在双向写入模式下速度加倍。



产品咨询

留言框

  • 产品:

  • 您的单位:

  • 您的姓名:

  • 联系电话:

  • 常用邮箱:

  • 省份:

  • 详细地址:

  • 补充说明:

  • 验证码:

    请输入计算结果(填写阿拉伯数字),如:三加四=7
扫一扫,关注微信
地址:上海市杨浦区松花江路251弄白玉兰环保广场3号902室 传真:021-55781190
©2023 科睿设备有限公司 版权所有 All Rights Reserved.  备案号:
扫一扫访问手机站扫一扫访问手机站
访问手机站