皮可安培计的核心优势及产品特点皮可安培计的测试需要把测试电压或强制电压施加到器件的输入端，并测量导致的任何泄漏电流和偏移电流，这经常是在1pA或更低的级别进行的，使器件测试吞吐速度达到很高。表面贴装元件的广泛使用使它的印制电路板空间要求降到了低，并使多个测量电路的封装能靠近测试夹具，可选带上下限报警控制功能，用轴承支持活动部分的仪表，不可避免地会存在摩擦而产生的摩擦力矩，它会在不同程度上阻碍活动部分的运动，使活动部分停在偏离真实平衡位置的地方，致使仪表指示产生误差。皮可安培计...

表面光电压谱保证良好的波长准确度和重复性表面光电压谱一体整合，空间更紧凑，操作更简便；高精度，自动化，数字化，让实验数据更准确；高均匀可调节光纤光源，特别为光电极辐照设计。半导体材料的光生电压性能的测试分析，可开展光催化等方面的机理研究，应用于太阳能电池、光解水制氢等方面的研究，研究光生电荷的性质，如：光生电荷扩散方向；解析光生电荷属性等。表面光电压谱模组化设计，紧扣用户需求，经济灵活，适用面广，升级、改造、维护均很方便，可选大功率卤钨灯及大功率氙灯光源，也可使用用户已有或的...

气溶胶粒径谱仪粉尘发生器在质量控制中有着广泛应用气溶胶粒径谱仪粉尘发生器基于单一颗粒的光散射的原理测量颗粒粒径分布，而无需假设特定分布，例如对数正态粒径分布，该方法将高敏感性、高准确性和高速测量结合起来，并实现对高浓度气溶胶颗粒的粒径分布的测量。气溶胶粒径谱仪粉尘发生器采用近前向散射技术，使得颗粒形状和折射率对测量结果的影响降至低，并专为高浓度气溶胶颗粒的测量进行了设计，技术上的解决解决方案就是通过空气动力学及光学聚焦产生一个足够小的测量体积，小的测量体积能够有效降低重叠误差...

激光直写提高工作量和用户安全程度激光直写光刻机是桌面型高分辨率激光光刻系统，它通过固定连续的375nm或405nm紫外光源在光刻胶或紫外敏感胶中直接刻划获得微纳结构，直写面积高达4英寸，特征尺寸（宽度）可达1微米。激光直写光刻机提供竖直和扫描直写模式，确保直接轨迹偏离小于100nm，具有电动光学聚焦系统，提供快速的聚焦功能，从而适合各种厚度衬底的要求，并具有晶圆装载和卸载系统装备到衬底室供客户选配，增强清洁程度，提高工作量和用户安全程度。激光直写不仅具有无掩模板直写系统的灵活...